Gebraucht VACTRONIC 2000-M #161821 zu verkaufen

VACTRONIC™ VACTRONIC 2000-M Ätzer/Ascher ist eine vielseitige Hochleistungsmaschine zum Ätzen und Aschen von Halbleitersubstraten. Es verwendet eine Kombination aus physikalischem Sputtern und chemischem Ätzen, um Oberflächenmuster in einer Vielzahl von Materialien zu erstellen, darunter Aluminium, Silizium, Keramik, Galliumarsenid und Polysilizium. Die Maschine ist mit einer modularen Ätzkammer, einer Kühleinrichtung und einem Gasfördersystem ausgestattet, das eine präzise Steuerung von Ätzparametern ermöglicht. Die Ätzkammer VACTRONIC™ 2000-M ist aus Edelstahl gefertigt und hermetisch abgedichtet, um einen sicheren und effektiven Betrieb zu gewährleisten. Innerhalb der Kammer befindet sich eine einzigartige Einheit von Düsen, die eine gleichmäßige Verteilung von Ätzmittel, entweder in Dampf- oder Gasform, auf das Substrat bereitstellen. Die Gasfördermaschine verfügt über ein fortschrittliches Werkzeug von Ventilen und Dosiervorrichtungen, die eine präzise Steuerung des Durchflusses von Ätzgas ermöglichen. Diese Anlage verfügt auch über ein vakuumunterstütztes Gasfördermodell, um sicherzustellen, dass nach dem Ätzen kein Ätzgas verschwendet oder in der Kammer zurückgelassen wird. Die Kühleinrichtung von VACTRONIC™ VACTRONIC 2000-M sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung innerhalb der Ätzkammer. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung des Ätzprozesses, wodurch sichergestellt ist, dass die Substrate genau und konsistent geätzt werden. Das Kühlsystem trägt auch dazu bei, die Wärmemenge während des Ätzvorgangs zu minimieren. Das vielseitige Design der Maschine ermöglicht den Einsatz für vertikale und horizontale Ätzanwendungen. Die Gasfördereinheit und Ätzparameter sorgen für Genauigkeit und Wiederholbarkeit über Ätzungen hinweg, was höhere Erträge und Durchsätze ermöglicht. Der modulare Aufbau ermöglicht eine einfache Installation und Bedienung. VACTRONIC™ 2000-M Ätzer/Ascher ist eine ideale Wahl für die Ätzung einer Vielzahl von Materialien, von Aluminium und Silizium bis Galliumarsenid und Polysilizium. Der modulare Aufbau ermöglicht eine einfache Installation und Bedienung und die fortschrittlichen Gasförder- und Kühlsysteme ermöglichen eine präzise Steuerung der Ätzparameter und sorgen für Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Die Maschine ist auch in der Lage, hochauflösende Ätzmuster zu produzieren, die ideal für eine Vielzahl von Anwendungen sind, so dass sie eine ideale Wahl für das Ätzen und Aschen von Substrat ist.