Gebraucht VEECO Microetch LL250 #59880 zu verkaufen
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ID: 59880
Automatic loadlock ion mill, 4"
Optical / Fiber optic system for endpoint detection
Square substrates:
Can be modified to accept 4" round substrates
System used to mill:
Platinum
Titanium
Nickel
Copper
Nichrome thin film metals
Anisotropic etching includes:
Au, Cu, Ni, Cr, and TiW
Multistep etch processes for stacked layers (MLC, MCM):
Ceramics
Hybrids
Thin film heads
Flat panel displays
High frequency devices
Process flexibility with IBE, RIBE, CAIBE, flowcool substrate cooling
Rotation and tilting options configured
Pumping system includes:
Mechanical pump and turbo pump for main chamber
Mechanical pump and turbo pump for load lock / Transfer chamber
Spare parts:
Magnetic sensor
Shutter gear assembly
Shutter worm gear
Molly screws for source
Tungsten source wire
Tungsten neutralizer wire
Assorted insulators
Assorted O-rings
Fixturing plates, 4"
PC:
Comark
Model: 4000 Series
INTEL 486i
1994 vintage.
VEECO LL 250 ist eine Ionenfräsanlage, die zur Herstellung von Nanostrukturen verwendet wird. Es ist das perfekte Werkzeug für die Herstellung hochwertiger nanostrukturierter Oberflächen, insbesondere für Anwendungen in der Elektronik- und Optoelektronikindustrie. Dieses System setzt auf fokussierte Ionenstrahlen, um eine hervorragende Oberflächenqualität zu erreichen und verfügt über eine fortschrittliche Ablationskammer mit ergonomischem Design. VEECO Microetch LL250 ist eine feldprogrammierbare Einheit, die die Anpassung von Fräsparametern ermöglicht. Es verfügt über eine breite Palette von Strahlenergien, Pulslängen und Gasdrücken. Der gesamte Bereich der Strahlspannung kann auf maßgeschneiderte Fräsfunktionen für verschiedene Substrate und Materialien eingestellt werden. Die Maschine bietet auch fortschrittliche Ionenstrahldiagnostik und Systemüberwachung, einschließlich Ionenstrahlstrom und Energiesteuerung. LL 250 verfügt über eine quadrupolbasierte Ionenstrahlsäule, die eine breite Palette von Strahl- (Elektronen-) Energien ermöglicht. Dies ermöglicht eine größere Flexibilität und Anpassung von Fräsprofilen. Die Flexibilität von Energie und Pulslänge macht Microetch LL250 für verschiedene Ionenätzschritte geeignet, wie Materialien für MEMS, Biomikrofluidik und optische Komponenten. Darüber hinaus verfügt VEECO LL 250 über eine hochauflösende Abbildungsstufe, die eine präzise Ausrichtung und Orientierung des Substrats ermöglicht. Dies ist entscheidend, um einen konsistenten Prozess über die Wafergröße zu gewährleisten. Seine Bildaufnahme- und Driftkorrekturmuster bieten zudem erhebliche Entwicklungskosteneinsparungen und verbesserte Zykluszeiten. VEECO Microetch LL250 enthält auch ein dynamisches Strahlformungsmerkmal, um ungleichmäßige oder verzerrte Ionenprofile zu minimieren, die durch ungleichmäßige Strahlenergien oder Abstände verursacht werden können. Diese dynamische Strahlformung sorgt für höchste Qualität beim Ätzen und Verfahren für ein breites Spektrum an Substraten und Materialien. Die LL 250 bietet zudem extrem geringe Geräuschpegel während des Betriebs. Dies ist wichtig für den Einsatz im Reinraumbetrieb und für Geräte mit empfindlichen elektronischen Komponenten. Es enthält auch optionales Zubehör, um den Geräuschpegel weiter zu reduzieren. Insgesamt ist Microetch LL250 ein vielseitiges, leistungsfähiges Ionenfräswerkzeug, das perfekt ist, um Nanostrukturen mit großartigen Oberflächenveredelungen zu erreichen. Dank seiner vielfältigen Funktionen, Eigenschaften und Leistungsfähigkeit eignet es sich ideal für die Herstellung nanostrukturierter Oberflächen in der Elektronik-, Optoelektronik- und MEMS-Industrie.
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