Gebraucht VEECO Microetch LL250 #59880 zu verkaufen

ID: 59880
Automatic loadlock ion mill, 4" Optical / Fiber optic system for endpoint detection Square substrates: Can be modified to accept 4" round substrates System used to mill: Platinum Titanium Nickel Copper Nichrome thin film metals Anisotropic etching includes: Au, Cu, Ni, Cr, and TiW Multistep etch processes for stacked layers (MLC, MCM): Ceramics Hybrids Thin film heads Flat panel displays High frequency devices Process flexibility with IBE, RIBE, CAIBE, flowcool substrate cooling Rotation and tilting options configured Pumping system includes: Mechanical pump and turbo pump for main chamber Mechanical pump and turbo pump for load lock / Transfer chamber Spare parts: Magnetic sensor Shutter gear assembly Shutter worm gear Molly screws for source Tungsten source wire Tungsten neutralizer wire Assorted insulators Assorted O-rings Fixturing plates, 4" PC: Comark Model: 4000 Series INTEL 486i 1994 vintage.
VEECO LL 250 ist eine Ionenfräsanlage, die zur Herstellung von Nanostrukturen verwendet wird. Es ist das perfekte Werkzeug für die Herstellung hochwertiger nanostrukturierter Oberflächen, insbesondere für Anwendungen in der Elektronik- und Optoelektronikindustrie. Dieses System setzt auf fokussierte Ionenstrahlen, um eine hervorragende Oberflächenqualität zu erreichen und verfügt über eine fortschrittliche Ablationskammer mit ergonomischem Design. VEECO Microetch LL250 ist eine feldprogrammierbare Einheit, die die Anpassung von Fräsparametern ermöglicht. Es verfügt über eine breite Palette von Strahlenergien, Pulslängen und Gasdrücken. Der gesamte Bereich der Strahlspannung kann auf maßgeschneiderte Fräsfunktionen für verschiedene Substrate und Materialien eingestellt werden. Die Maschine bietet auch fortschrittliche Ionenstrahldiagnostik und Systemüberwachung, einschließlich Ionenstrahlstrom und Energiesteuerung. LL 250 verfügt über eine quadrupolbasierte Ionenstrahlsäule, die eine breite Palette von Strahl- (Elektronen-) Energien ermöglicht. Dies ermöglicht eine größere Flexibilität und Anpassung von Fräsprofilen. Die Flexibilität von Energie und Pulslänge macht Microetch LL250 für verschiedene Ionenätzschritte geeignet, wie Materialien für MEMS, Biomikrofluidik und optische Komponenten. Darüber hinaus verfügt VEECO LL 250 über eine hochauflösende Abbildungsstufe, die eine präzise Ausrichtung und Orientierung des Substrats ermöglicht. Dies ist entscheidend, um einen konsistenten Prozess über die Wafergröße zu gewährleisten. Seine Bildaufnahme- und Driftkorrekturmuster bieten zudem erhebliche Entwicklungskosteneinsparungen und verbesserte Zykluszeiten. VEECO Microetch LL250 enthält auch ein dynamisches Strahlformungsmerkmal, um ungleichmäßige oder verzerrte Ionenprofile zu minimieren, die durch ungleichmäßige Strahlenergien oder Abstände verursacht werden können. Diese dynamische Strahlformung sorgt für höchste Qualität beim Ätzen und Verfahren für ein breites Spektrum an Substraten und Materialien. Die LL 250 bietet zudem extrem geringe Geräuschpegel während des Betriebs. Dies ist wichtig für den Einsatz im Reinraumbetrieb und für Geräte mit empfindlichen elektronischen Komponenten. Es enthält auch optionales Zubehör, um den Geräuschpegel weiter zu reduzieren. Insgesamt ist Microetch LL250 ein vielseitiges, leistungsfähiges Ionenfräswerkzeug, das perfekt ist, um Nanostrukturen mit großartigen Oberflächenveredelungen zu erreichen. Dank seiner vielfältigen Funktionen, Eigenschaften und Leistungsfähigkeit eignet es sich ideal für die Herstellung nanostrukturierter Oberflächen in der Elektronik-, Optoelektronik- und MEMS-Industrie.
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