Gebraucht YES CV 100P #9197487 zu verkaufen

Hersteller
YES
Modell
CV 100P
ID: 9197487
Plasma asher.
YES CV 100P ist ein hochpräziser Ascher/Ätzer, der von YES Robotics Corporation entwickelt wurde. Es ist eine fortschrittliche, voll programmierbare Ausrüstung, die entwickelt wurde, um präzise Ätz- und Ascheprozesse durchzuführen, mit dem Ziel, maximale Ausgangsqualität und Genauigkeit zu gewährleisten. CV 100P verfügt über ein integriertes Kühlsystem sowie eine Luftreinigungseinheit, um eine saubere Umgebung zu gewährleisten. Darüber hinaus bietet die fortschrittliche Carousel Control Unit (CCU) dem Anwender eine einfache, intuitive Programmierung und Steuerung. YES CV 100P ist mit einer SPS-Maschine und integrierter Ascher-/Ätzkammer ausgestattet und ermöglicht präzise temperatur- und druck-/vakuumgesteuerte Prozesse. Die erweiterte SPS-Werkzeug- und Kammerkonfiguration sorgt dafür, dass alle Parameter in einem Bereich gehalten werden, der für ein optimales Aschen/Ätzen geeignet ist. Temperatur- und Druck-/Vakuumniveaus können über die SPS-Anlage leicht eingestellt und überwacht werden. CV 100P verwendet ein hochwertiges Karussell-Düsenmodell (CNS), um Material auf die Wafer aufzutragen. Die Düsenausrüstung ist so konzipiert, dass eine gleichmäßige Materialabscheidung über das Werkstück sowie eine genaue und konsistente Platzierung gewährleistet ist. Das CNS verfügt auch über selbstreinigende und selbstkalibrierende Optionen und die Optionen für Laserschneide- und Gleichmäßigkeitstests an Wafern. Das In-situ-Rauchmanagement ist eines der Hauptmerkmale von YES CV- 100P. Der Ätzer/Ascher ist mit einer erweiterten Entlüftungsplatte ausgestattet, die eine Personalisierung des Prozessgasstroms ermöglicht. Mit der Entlüftungsplatte können Benutzer die Menge des Prozessgases steuern, das aus der Kammer abgegeben wird, wodurch während des Prozesses entstehende Dämpfe minimiert werden. Darüber hinaus verfügt die Entlüftungsplatte über eine Selbstverriegelung, die gewährleistet, dass die Entlüftungsplatte sicher geschlossen ist. Um maximalen Durchsatz und Zuverlässigkeit der Ergebnisse zu gewährleisten, enthält CV 100P auch eine Reihe von zusätzlichen Funktionen. Es ist in der Lage, mehrere Wafer gleichzeitig zu verarbeiten, was es zu einer idealen Wahl für Benutzer macht, die einen hohen Volumendurchsatz benötigen. Das fortschrittliche Bildverarbeitungssystem bietet Anwendern genaue Ergebnisse in Bezug auf Ätz-/Aschequalität. Darüber hinaus enthält YES CV 100P einen Wafer-Optimierungsmodus, mit dem Benutzer die Ätz- und Ashing-Parameter anpassen können, um die Ergebnisse an ihre spezifischen Anforderungen anzupassen. CV 100P ist eine fortschrittliche Ätz-/Aschereinheit und wurde entwickelt, um hervorragende Ergebnisse zu liefern. Es verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und intuitive Programmiermaschine, sowie eine Reihe von zusätzlichen Funktionen, um maximale Genauigkeit und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus bieten das erweiterte Entlüftungspanel und der Wafer-Optimierungsmodus Benutzern die Flexibilität, den Prozess an ihre spezifischen Anforderungen anzupassen.
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