Gebraucht YES / GLEN G 1000 #293735345 zu verkaufen
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ID: 293735345
Plasma cleaner
(5) Trays
Operation temperature: 20-100°C
N2 Flow rate: 1.7 SCFM
Process gas flow rate: 20-50 SCCM
Interior chamber dimension (W x D x H): 45.72 x 45.72 x 30.48 cm
Chamber material: 6061-T6 Aluminium
SEMI Compliance: S2/S8
Mass Flow Controller: Up to 3
Range for exposure time: 0-1200 Seconds (20 Minutes)
Resolution of timer setting: 1 Sec
Performance:
RF Plasma power: 0-1000 W @ 550 VAC
RF Leakage magnetic: 0.6 mA/m, 4.15 x 10-7 A2/m²
RF Leakage electrical: 1.6 V/m, 4.2 V2/m²
Nitrogen consumption: 0 SCF, 6.8 SCF, 1.7 SCF
Power consumption with pump: 375 W, 1000 W, 640 W
Reactant gas consumption: 0 SCF, 20-50 SCCM
Heat emission: 920 W
Power requirements: 200-250 VAC, 20 Amps, 50/60 Hz, Single phase
Does not include pressurized cylinder gas.
YES/GLEN G1000 ist eine hochentwickelte Ätz- und Aschermaschine für die präzise und effiziente Verarbeitung von Halbleiterscheiben und anderen Substraten. Dieses vielseitige Tool bietet eine breite Palette von Fähigkeiten und ist somit ideal für Forschung und Entwicklung sowie für Serienumgebungen. Mit seiner außergewöhnlichen Leistung und Zuverlässigkeit ist YES G-1000 eine beliebte Wahl bei Halbleiterherstellern und Forschungseinrichtungen weltweit. GLEN G 1000 ist ein Zweikammer-System, das Ätz- und Aschefunktionen in einer einzigen Plattform kombiniert und Anwendern eine beispiellose Flexibilität und Prozesskontrolle bietet. Das Gerät verfügt über eine Hochleistungs-HF-Plasmaquelle, die ein schnelles und gleichmäßiges Ätzen verschiedener Materialien ermöglicht, darunter Silizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid und Metalle. Die Doppelkammer-Konstruktion ermöglicht es Anwendern, schnell und einfach zwischen Ätz- und Ascheprozessen zu wechseln, ohne dass eine manuelle Kammerneukonfiguration erforderlich ist. Eines der Hauptmerkmale von G-1000 ist die fortschrittliche Prozessüberwachung und -kontrolle. Die Maschine ist mit mehreren Sensoren und Überwachungswerkzeugen ausgestattet, die eine Echtzeit-Überwachung von Prozessparametern wie Druck, Temperatur und HF-Leistung ermöglichen. So können Anwender Prozessbedingungen für maximale Leistung und Wiederholbarkeit optimieren. YES/GLEN G 1000 verfügt auch über fortschrittliche Gasdurchflussregelungssysteme, die eine präzise Steuerung der Gasdurchflussraten und -verhältnisse gewährleisten, so dass Benutzer sehr einheitliche und reproduzierbare Ergebnisse erzielen können. In puncto Leistung zeichnet sich YES G 1000 sowohl bei Ätz- als auch bei Ascheanwendungen aus. Das Werkzeug kann hohe Ätzraten und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit bei großen Wafergrößen erreichen, wodurch es gut für Serienanwendungen geeignet ist. YES/GLEN G-1000 bietet auch präzise Auswaschmöglichkeiten zur Entfernung von Photolack und anderen organischen Verunreinigungen von Waferoberflächen. Mit den anpassbaren Ashing-Parametern des Asset können Anwender Prozessbedingungen für unterschiedliche Materialien und Prozessanforderungen optimieren. YES G1000 wurde im Hinblick auf Benutzerfreundlichkeit mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche und intuitiven Software-Bedienelementen entwickelt. Die Softwareschnittstelle des Modells ermöglicht es Benutzern, Prozessrezepte einfach zu programmieren und zu überwachen sowie auf erweiterte Diagnose- und Fehlerbehebungswerkzeuge zuzugreifen. G1000 bietet auch Funktionen zur Fernüberwachung und -steuerung, so dass Benutzer die Geräte von einem entfernten Standort aus überwachen und steuern können, um zusätzlichen Komfort und Flexibilität zu gewährleisten. Zusätzlich zu seinen fortschrittlichen Fähigkeiten und Leistung, G 1000 ist auch sehr zuverlässig und einfach zu warten. Das System besteht aus hochwertigen Komponenten und Materialien, die der Strenge von Halbleiterverarbeitungsumgebungen standhalten. GLEN G1000 ist modular aufgebaut und ermöglicht einen einfachen Zugang zu allen wichtigen Komponenten für Wartung und Wartung. Darüber hinaus verfügt das Gerät über selbstdiagnostische Tools, mit denen Benutzer Probleme schnell erkennen und beheben können, um Ausfallzeiten zu minimieren und die Produktivität zu maximieren. Insgesamt ist GLEN G-1000 eine erstklassige Ätz- und Aschermaschine, die unübertroffene Leistung, Vielseitigkeit und Zuverlässigkeit bietet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen zur Prozesssteuerung und -überwachung, den leistungsstarken Ätz- und Aschefunktionen und der benutzerfreundlichen Schnittstelle ist YES/GLEN G1000 die perfekte Wahl für Halbleiterhersteller und Forscher, die eine modernste Lösung für ihre Prozessanforderungen suchen.
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