Gebraucht YES / GLEN R1 #9049956 zu verkaufen

Hersteller
YES / GLEN
Modell
R1
ID: 9049956
Plasma etcher RF Power supply with matching network Lark sequential microprocessor (3) Plasma gas inputs Granville phillips 275 Backfill input Inside dimensions: 16" x 16" x 16" (8) 14" x 14" trays 115 V, 60 Hz, 1.4 A, 175 W.
YES/GLEN R1 ist eine fortschrittliche Ätz- und chemische Aschemaschine für die Herstellung von Wafern vor Halbleiterherstellungsprozessen. Es wurde von YES Technology entwickelt und verfügt über die Fähigkeit, sowohl Trockenätz- als auch chemische Ascheprozesse in einem einzigen System durchzuführen. Die Anlage enthält einen Reaktiv-Ionen-Ätzer (RIE) für Trockenätzprozesse und ein induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) für chemisches Aschen. Alle Prozesse können in einer Inertgasumgebung mit unterschiedlichsten Gasen durchgeführt werden. Die Maschine ist mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, wie Überdruckschutz und Ionenstrahlstrombegrenzung, um den sicheren Betrieb des Werkzeugs zu gewährleisten. YES R 1 kombiniert fortschrittliche Automatisierungs- und Softwarefunktionen, um eine stark wiederholbare Ätz- und Veraschungsleistung zu bieten. Es verfügt über eine offene Architektur-Computerschnittstelle zur Steuerung, Datenerfassung und Prozessoptimierung. Die Anlage ist auch in der Lage thermische Asche, mit einem Widerstandsheizelement, das Temperaturen von bis zu 9500 ° C (17.000 ° F) erreichen kann. GLEN R-1 ist mit einem Feldemissionsrasterelektronenmikroskop ausgestattet, um eine präzise Ausrichtung der Probe auf das Substrat vor der Verarbeitung zu gewährleisten. Es enthält auch einen Roboter-Probenlader, um die Probenhandhabung zu erleichtern. Das Modell ist mit zahlreichen Diagnose-, Überwachungs- und Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Geräte zuverlässig und sicher arbeiten. Das System ist auch in der Lage, Rezeptinformationen in einer sicheren Datenbank zu speichern und zu verfolgen, um konsistente Prozessergebnisse zu gewährleisten. R 1 ist hochflexibel und eignet sich daher gut für eine Vielzahl von Anwendungen zum Ätzen und Aschen von Halbleitern. Seine Kombination aus anspruchsvollen automatisierten Funktionen und fortschrittlicher Sicherheit und Steuerung machen es ideal für fortschrittliche Halbleiterproduktionsprozesse geeignet.
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