Gebraucht ELETTRORAVA PECVD Clustertool system #293756310 zu verkaufen
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ID: 293756310
Weinlese: 2011
(5) Chambers
Working hours: 1000 Hours
Loadlock chamber
Dimensions : 300 mm diameter x 350 mm height
DN160CF port
Substrate holders:
DN160ISO
DN200CF
DN25KF
DN40CF
DN40KF
Substrate: 100 mm x 100 mm
Pumping speed:
27 m3/h
N2 / 330 l/sec
He / 340 l/sec
H2 / 300 l/sec
Water cooled
Control unit ETC300
Rotational speed: 42000 RPM
Inlet screen
Gas / MFC Size:
SiH4 / 100 SCCM
CH4 / 100 SCCM
NH3 / 200 SCCM
N2O / 100 SCCM
H2 / 200 SCCM
304 Cylindrical transfer chamber
Diameter: 600 mm
Height: 270 mm
Pump mileage: 1,000 Hours
Ultra high vacuum
Maximum nominal heater temperature: 750°C
Maximum substrate temperature: 400°C
Turbomolecular pumps elettrorava ETP300GCR
RF Generator
Mount gas cabinet
SS tubing
Safety interlock
Frequency 13.56 MHz
Power supply: 300 W
2011 vintage..
ELETTRORAVA PECVD Clustertool ist ein anspruchsvolles Gerät, das in der Halbleiterindustrie zur Abscheidung von dünnen Schichten durch das Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) -Verfahren verwendet wird. Dieses System wurde entwickelt, um die Produktion von dünnen Schichten mit hohem Durchsatz mit präziser Kontrolle über Schichtdicke, Zusammensetzung und Gleichmäßigkeit zu ermöglichen und ist somit ideal für Anwendungen in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Photovoltaik und anderen High-Tech-Industrien geeignet. Herzstück der PECVD Clustertool Unit ist die Clusterarchitektur, die die Integration mehrerer Prozessmodule innerhalb einer Plattform ermöglicht. Dieser modulare Aufbau ermöglicht es der Maschine, eine Reihe von sequentiellen Prozessen wie Filmabscheidung, Plasmareinigung und Messtechnik durchzuführen, ohne dass ein manueller Eingriff oder eine Übertragung zwischen verschiedenen Werkzeugen erforderlich ist. Die Clusterkonfiguration verbessert außerdem die Gesamtwerkzeugeffizienz, indem Ausfallzeiten minimiert und der Durchsatz erhöht wird. Eine der Schlüsselkomponenten von ELETTRORAVA PECVD Clustertool Asset ist die PECVD-Kammer, in der der Dünnschichtabscheidungsprozess stattfindet. Diese Kammer ist mit einer Vielzahl von hochpräzisen Eigenschaften ausgestattet, einschließlich Temperaturregler, Gasstromregler und Plasmaquellen, um die Abscheidung von Folien mit gleichmäßiger Dicke und gewünschten Eigenschaften zu gewährleisten. Die PECVD-Kammer wird typischerweise unter Vakuumbedingungen betrieben, um Verschmutzungen zu verhindern und die Reproduzierbarkeit der Folieneigenschaften zu gewährleisten. Der Abscheidungsprozess im PECVD Clustertool-Modell beinhaltet die Einführung von Vorläufergasen in die PECVD-Kammer, wo sie von einer Plasmaquelle aktiviert werden, um reaktive Spezies zu erzeugen, die reagieren und sich auf der Substratoberfläche ablagern. Die Plasmaquelle kann je nach den spezifischen Anforderungen des Abscheideprozesses durch Hochfrequenz (RF) oder Mikrowellenenergie gespeist werden. Durch die Steuerung der Prozessparameter wie Gasflussraten, Temperatur und Plasmaleistung können Anwender die Eigenschaften der abgeschiedenen Folien an die gewünschten Spezifikationen anpassen. Neben der PECVD-Kammer verfügt ELETTRORAVA Clustertool auch über Zusatzmodule für Vor- und Nachbearbeitungsschritte wie Substratreinigung, Oberflächenbehandlung und Foliencharakterisierung. Diese Module lassen sich nahtlos in die Clusterarchitektur integrieren und ermöglichen von Anfang bis Ende einen vollautomatischen und kontrollierten Abscheideprozess. Das System ist auch mit fortschrittlichen Softwaresteuerungen ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, den Abscheidungsprozess für verschiedene Materialien und Filmstrukturen zu programmieren und zu optimieren. Insgesamt stellt ELETTRORAVA PECVD Clustertool eine hochmoderne Lösung für Dünnschichtabscheidungsanwendungen dar, die hohe Präzision, Wiederholbarkeit und Durchsatz erfordern. Die fortschrittliche Clusterarchitektur, das PECVD-Kammerdesign und die Integration von Zusatzmodulen machen es zu einem vielseitigen Werkzeug für eine Vielzahl von Branchen, die fortschrittliche Materialien und Geräte entwickeln möchten. Mit seiner Fähigkeit, Filme mit genauer Kontrolle über Eigenschaften und Gleichmäßigkeit abzulegen, ist diese Maschine gut geeignet für Spitzenforschungs- und Produktionsumgebungen, in denen überlegene Filmqualität von größter Bedeutung ist.
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