Gebraucht ADTEC Anex-A2161 #9383880 zu verkaufen

ADTEC Anex-A2161 ist ein leistungsfähiges hochmodernes Belichtungsgerät für die photolithographische Forschung und Entwicklung. Es eignet sich gut zum Ausrichten, Projizieren und Belichten von Substraten in verschiedenen Anwendungsbereichen. Anex-A2161 verfügt über mehrere einzigartige Merkmale, die es gut an die Anforderungen der photolithographischen Forschung und Entwicklung angepasst. Es umfasst ein hochauflösendes Rubinlaser-Projektionssystem sowie eine Weitbereichskamera mit einem hochwertigen CCD-Sensor. Dies ermöglicht eine präzise Ausrichtung bezüglich der Konstruktionsmuster auf dem Substrat. Es verwendet auch eine hochpräzise Glasmaskenbühne, die eine direkte visuelle Ausrichtung auf das Maskendesign ermöglicht. ADTEC Anex-A2161 verfügt über eine fortschrittliche Bildverarbeitungseinheit zur Messung, Verarbeitung und Projektion eines Photomaskendesigns auf ein Substrat. Dies kann mit einer präzisen voreingestellten Vergrößerung und Drehung erfolgen, die präzise Anpassungen einzelner Punkte in der Konstruktion ermöglicht. Darüber hinaus kann die Maschine für eine Vielzahl von Anwendungen wie direktes Laserschreiben und projektionsunterstützte optische Bildgebung eingesetzt werden. Das Belichtungswerkzeug enthält außerdem eine dreidimensionale Zielpositioniereinrichtung, die eine präzise Ausrichtung und Bewegung des Substrats oder der Maske ermöglicht. Dies bietet eine hohe Genauigkeit beim Projizieren des Maskendesigns auf das Substrat. Das Belichtungsmodell umfasst auch eine Lichtmeßeinrichtung, die bei der Bestimmung des Belichtungswiderstandes genaue Belichtungsergebnisse liefert. Anex-A2161 ist ein leistungsfähiges, benutzerfreundliches und präzises photolithographisches Belichtungssystem. Die Kombination von Funktionen macht es zu einer idealen Wahl für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen und bietet Präzision und Genauigkeit bei maximaler Flexibilität. Mit seiner fortschrittlichen und präzisen Bildverarbeitungseinheit bietet es eine effiziente und effektive Möglichkeit, Substrate mit einer Vielzahl von Photomasken-Designs zu belichten, während seine dreidimensionale Zielpositionierungsmaschine ein präzises Targeting und Bewegung bietet. Das Lichtmeßwerkzeug liefert auch genaue und zuverlässige Ergebnisse bei der Bestimmung des Belichtungswiderstandes.