Gebraucht AXCELIS / FUSION 200 PCU #9123076 zu verkaufen

AXCELIS/FUSION 200 PCU ist eine hochpräzise Belichtungsanlage für die Lithographie und Halbleiterherstellung. Es bietet verbesserte Genauigkeit und Durchsatzraten sowie verbesserte Zuverlässigkeit und Leistung. Das System bietet 200 W maximale Quellenleistung und verfügt über eine breite Palette von Wellenlängen, einschließlich EUV, F2, KrF, ArF und i-line Quellen. Das Gerät besteht aus einem Precision Photolithography Module (PPML), das mit einer Beam Scanning Machine (BSS) gekoppelt ist. Die PMML besteht aus einer Röntgenquelle, einem Masken-Aligner, einer Beleuchtungsbaugruppe und einem Datenerfassungswerkzeug. Die Röntgenquelle ist eine atomare Entladungsquelle vom thermionischen Typ, die hochenergetische Elektronen zur Erwärmung eines Targets liefert. Dieses Ziel wandelt Röntgenstrahlung in ultraviolette, sichtbare oder infrarote Strahlung um. Der Mask Aligner ermöglicht eine genaue Positionierung der Maske im Röntgenstrahl. Die motorisierte Fünf-Achsen-Stufe bietet die Flexibilität, die Maskenposition in fünf Freiheitsgraden einzustellen. Die Beleuchtungsbaugruppe enthält optische Komponenten, einschließlich Linsen, Spiegel und Filter, die das Strahlmuster prägen, die thermische Verzerrung reduzieren und die Energieverteilung steuern. Der Data Acquisition Asset sammelt und speichert Belichtungsdaten direkt vom Bildsensor. Das Beam Scanning Model (BSS) verarbeitet gleichzeitig 200 Wafer pro Lauf und bietet eine breite Belichtungsanpassung. Zum Beispiel können Benutzer Laserpulsdauer, Scan-Form und -Geschwindigkeit und Dosierung mit hoher Genauigkeit anpassen. Der BSS bietet zudem einen optionalen Vakuum-basierten Pre-Scanner (VPS) zur Wafer-Vorausrichtung und verbesserten Messdurchsatz. Das VPS ist in einen Lasermustererkennungsalgorithmus integriert, der vor der Belichtung Markierungen auf dem Wafer identifiziert und Abweichungen von Spezifikationen automatisch korrigiert. FUSION 200 PCU kombiniert fortschrittliche Präzisionsausrichtung mit überlegener Scangenauigkeit für verbesserte Lithographieleistung. Die Ausrüstung ermöglicht eine schnelle, genaue und zuverlässige Belichtung komplexer und empfindlicher Layouts und ist damit ein ideales Werkzeug für kritische Lithographieanwendungen.