Gebraucht AXCELIS / FUSION 200 PCU #9258173 zu verkaufen

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ID: 9258173
Wafergröße: 6"
Photo stabilizer, 6".
AXCELIS/FUSION 200 PCU (Photomask Creation Unit) ist eine fortschrittliche hochpräzise Lithographieausrüstung für die Halbleiterindustrie. Es wird verwendet, um Halbleiterscheiben ultraviolettem (UV) Licht mit extremer Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu belichten, so dass die Anforderungen an hochwertige, hohe Ausbeute und hochvolumige Geräteherstellung erfüllt werden. FUSION 200 PCU ist mit einem hochpräzisen Direct-Drive Stepper mit Sub-Micron Accuracy (DDSSA) ausgestattet, der eine äußerst präzise Verarbeitung der belichteten Halbleiterscheiben ermöglicht. Der Stepper enthält ein hochgenaues, hochauflösendes optisches Ausrichtungs-Subsystem, um eine genaue Platzierung von Belichtungsmasken auf dem Wafer zu gewährleisten. Das System umfasst auch eine abgeschwächte optische Weglänge (AOPL) Funktion, die eine unabhängige Belichtung verschiedener Bereiche des Wafers ermöglicht. AXCELIS 200PCU umfasst auch eine erweiterte Registrierungseinheit, die sicherstellt, dass sich jeder freiliegende Chip in der richtigen Position relativ zu anderen Chips befindet, sowie eine Doppelkanten-Belichtungsperforation und Zapfenmaschine, die die Genauigkeit der Belichtungen weiter erhöht. Dadurch wird sichergestellt, dass die Belichtungsintensität über das gesamte Bild gleichmäßig ist, wie es für die hochpräzise Lithographie erforderlich ist. Um die Kompatibilität mit verschiedenen Arten von Belichtungsmasken zu gewährleisten, ist das Werkzeug mit einer Reihe von Filtern ausgestattet, um die Belichtung verschiedener lichtempfindlicher und dotierter Schichten von Halbleiterscheiben zu unterstützen. Für die Lithographie von sehr kleinen Merkmalen umfasst die Anlage auch eine alternative Belichtungstechnik, das Modell der Scanning-Tunneling-Lithographie (STL), bei der die Belichtung mit einer lokalen Abtastsonde durchgeführt wird, die mit einer Reihe von Emittern gekippt ist. 200 PCU verwendet mehrere Sicherheitsmerkmale, um die versehentliche Strahlenbelastung zu minimieren. Dazu gehören optische Sicherheitsvorhänge, eine eng überwachte Verriegelungsausrüstung und ein automatisch eingestellter analoger Belichtungszeitgeber. Das System umfasst auch eine Selbstreflexionskompensationseinheit, die die Intensität der Belichtung entsprechend einstellt. Um den anspruchsvollen Anforderungen der Hochvolumen-Geräteherstellung gerecht zu werden, umfasst die AXCELIS 200 PCU eine Hochgeschwindigkeits-Datenschnittstelle, die eine Fernprogrammierung der Maschine ermöglicht. Dadurch können komplexe Abbildungssequenzen vollautomatisch ausgeführt werden. Zusammenfassend ist AXCELIS/FUSION 200PCU ein fortschrittliches Lithographiewerkzeug, das den anspruchsvollen Anforderungen an die Herstellung von hochpräzisen und hochvolumigen Halbleiterbauelementen gerecht wird. Diese Anlage ist mit einem hochpräzisen DDSSA und einem engen Überwachungsmodell sowie einer Reihe von Filtern, einer STL-Ausrüstung und einer Hochgeschwindigkeits-Datenschnittstelle zur Fernprogrammierung des Systems ausgestattet. Die verschiedenen Merkmale gewährleisten Genauigkeit und Gleichmäßigkeit der Belichtung sowie ein hohes Maß an Betriebssicherheit.
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