Gebraucht AXCELIS / FUSION M 150PCU #9355456 zu verkaufen

AXCELIS/FUSION M 150PCU Belichtungsgeräte sind ein anspruchsvolles Werkzeug für die fortschrittliche lithographische Bearbeitung von Wafern. Es wurde speziell entwickelt, um sowohl präzise als auch schnell zu sein. Es verfügt über einen langen Arbeitsweg und ein weites Sichtfeld, das eine präzise Ausrichtung des Retikels auf den Wafer ermöglicht. Darüber hinaus halten die schnelle Belichtungsrate und die kurze Belichtungszeit den Workflow konsistent und effizient. Das System ist ideal für eine Reihe von lithographischen Prozessen, einschließlich direkter UV-Laserbelichtung, UV-Photoresist-Beschichtung und Post-Coating-Ausrichtung. Seine schnelle Belichtungsrate ist auf eine optische Vierlinseneinheit mit einer Schwimmfeldbildgebungsmaschine zurückzuführen. Dieses optische Vierlinsenwerkzeug hat eine kleine numerische Apertur, die die Beugung reduziert und die Auflösung erhöht. Das Asset verfügt zudem über eine Auto Focus-Funktion, um den Wafer schnell in die optimale Fokusposition zu bringen. FUSION M 150PCU bietet mit seiner integrierten automatischen Ausrichtungsfunktion eine hohe Genauigkeit für kritische Bildaufgaben. Die automatische Ausrichtung richtet das Retikel schnell und präzise auf den Wafer aus, um ein ordnungsgemäß uniformiertes Belichtungsmuster zu erhalten. Darüber hinaus sorgt die einstellbare Fokusfunktion dafür, dass alle Bilder den gleichen Fokusabstand haben, wodurch eine gleichmäßige Belichtung und Reproduzierbarkeit der Ergebnisse gewährleistet ist. Das Modell wurde entwickelt, um die Handhabung und Beladung von Wafern zu erleichtern. Es verfügt über eine schnelle Wafer-Zugangskammer, die leicht aufschwingt, so dass Wafer schnell be- und entladen werden können. Darüber hinaus verringert die automatisierte Wafer-Ausrichtungsausrüstung die Fehlstellungsbedenken und hilft, den Wafer schnell auf die Abbildungsstufe zu positionieren. Insgesamt ist das Belichtungssystem AXCELIS M 150 PCU ein großartiges Werkzeug für die schnelle und genaue lithographische Verarbeitung von Wafern. Seine Eigenschaften ermöglichen es Benutzern, das Retikel schnell und genau auf den Wafer auszurichten, um ein gleichmäßiges Belichtungsmuster und reproduzierbare Ergebnisse zu gewährleisten. Mit einer verstellbaren Fokuseinheit und automatisierter Waferausrichtung wird die Maschine sicherlich dazu beitragen, einen reibungslosen und effizienten Workflow in jedem Mikrofabrikationsprozess zu ermöglichen.