Gebraucht AXCELIS / FUSION M 200 PC #9266271 zu verkaufen
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ID: 9266271
Weinlese: 2006
Photo stabilizer
Wafer substrates, 3"-6"
Cassette to cassette hander
UV Light exposure with photoresist / Substrate temperature
Transporters: Robotic pick and place
Lamp functions: Off, flash, low and high
Chuck temperature range: 50-240 iaC
Chuck temperature ramp rate: 0.5-2.5 iaC/sec
2006 vintage.
AXCELIS/FUSION M 200 PC ist eine hochmoderne, hochpräzise Waferbelichtungsanlage für Produktentwicklung, Prototyping und Produktionslinien. Das System verfügt über ein hochpräzises Belichtungsmikroskop mit variabler Öffnung mit einer maximalen Auflösung von 20 μ m/1 μ m über ein Sichtfeld von 95 x 95 mm. Das Gerät wurde für Anwendungen wie Lithographie, fortschrittliche Verpackungen, MEMS, Dünnschicht-Photovoltaik und Biomems entwickelt. Die großen mechanischen Subsysteme der Maschine bieten Inline-Funktionen zur automatischen Waferausrichtung, Wafer-Fokussierung und Formatkonvertierung. Die automatisierte Waferausrichtung, gepaart mit einer geschlossenen Fokusregelung und einer breiten Fokusreichweite, bietet Genauigkeit und Wiederholbarkeit bei der Ausrichtung mehrerer Wafer. Ein integriertes Wafer-Handling-Tool bietet Platz für alle Kassetten, Wafer-Pods, flache und gebogene Substrate, Wafer mit einer großen Anzahl von Stößen, Geflecht und eutektische Bindung und MEMS-Innenverpackungen. Das Asset verfügt zudem über ein platzsparendes Scanner-Design, das die Integration eines 400mm-Wafers für die Prozessentwicklung ermöglicht. Das optische Subsystem des Scanners betont die Leistung über die Kosten, um die höchste Auflösung und Präzision zu erreichen, die in Standardgeräten verfügbar ist. Die Optik, bestehend aus einer Hochleistungs-Kurzpulslaserdiode, einer umweltversiegelten Linsenanordnung und einer Feldreduktionsoptik, bietet eine Lichtintensität von bis zu 200 mW/cm2 mit einer engen spektralen Bandbreite. FUSION M200PC wurde entwickelt, um die Anforderungen der Halbleiterindustrie an ertragreiche, kostengünstige und fehlerfreie Waffeln zu erfüllen. Eine Vision in-Model-Kalibrierung und eine fortschrittliche Wafer Spacer Control Equipment erhöhen Zykluszeit und Erträge durch verbesserte Prozessflexibilität und Wafer Tracking. Darüber hinaus gewährleistet ein flexibler, anwendungsgestützter Betrieb eine kontinuierliche Rückkopplung auf wiederherstellbare Fehler und eine automatische Laserreinigung beseitigt Partikelverunreinigungen und erhöht die Ausbeuten. Das System beinhaltet auch eine intuitive, anwenderzentrierte Software, die die Steuerung der gesamten Einheit ermöglicht, einschließlich der Belichtung vor der Abscheidung. Mit einer intuitiven Drag-and-Drop-Benutzeroberfläche können Benutzer ihre Lithographieaufträge entwerfen, Parameter steuern und den Prozess in Echtzeit überwachen. Die Software enthält auch ein Belichtungsprotokoll mit einer maschineninternen Datenbank zum Speichern und Anzeigen vergangener Aufträge. Insgesamt bietet AXCELIS M200 PC präzise und wiederholbare Leistung und unübertroffene Wiederholbarkeit in einer Vielzahl von Waferformaten und ist damit eine ideale Wahl für die Halbleiterherstellung. Es ist das perfekte Werkzeug für die Prozessentwicklung und -produktion, wo schnelle Umstellungen und bordeigene Datenerfassung hohe Erträge und hervorragende Ergebnisse bringen.
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