Gebraucht AXCELIS / FUSION M 200 PC #9329137 zu verkaufen

AXCELIS/FUSION M 200 PC ist ein fortschrittliches Belichtungsgerät, das für Laserlithographieanwendungen entwickelt wurde. Das System verwendet einen 532 nm grünen Excimerlaser, um Photolackmuster auf Halbleiterscheiben zu erzeugen. Es verfügt auch über zwei Präzisionsfokussierungsoptiken, um hochauflösende Bildgebung mit verbesserter Fokustiefe und höherem Durchsatz zu ermöglichen. Das Gerät verfügt über ein starres Grundplattendesign, um Vibrationen zu eliminieren und eine genaue Ausrichtung und Belichtung der Photolithographie sicherzustellen. Es enthält auch eine Wärmebildmaschine und fortschrittliche Messtechnik-Tools, um die Belichtungsparameter während der Prozessläufe zu überwachen und anzupassen. Das Kernmerkmal des Tools ist seine automatisierten Belichtungsfunktionen. Die Plattform ermöglicht programmierbare Parametereinstellungen wie Belichtungszeiten, Fokustiefe, Feldgröße, Energiepegel und Wellenlänge. Die Power SenseTM Leistungsüberwachungstechnologie misst dynamisch die Leistungsverteilung des Lasers und passt seine Eigenschaften automatisch an die optimale Leistung an. Darüber hinaus ermöglicht die PulseStitchTM-Funktion dem Benutzer, mehrere Impulse mit einstellbarer Dauer und Energie zu einem einzigen Impuls zu kombinieren. Dadurch wird eine gleichmäßige Energieverteilung über die Photolackmuster gewährleistet. FUSION M200PC ist mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen ausgestattet, um den Bediener und das Laser-Asset vor Schäden zu schützen. Zusätzlich zu den Verriegelungssensoren des Modells verfügt das Gerät über ein eingebautes Sicherheitsvorhangsystem und eine Auspuffeinheit, die während des Belichtungsprozesses entstehende Dämpfe eliminiert. Die Maschine verfügt außerdem über ein Wasserkühlwerkzeug und eine Stromversorgung, um einen stabilen, dauerhaften Betrieb zu gewährleisten. AXCELIS M200 PC kann in Verbindung mit einer Vielzahl von Photomasken-Designs verwendet werden und kann verwendet werden, um viele verschiedene Arten von Photolack und andere Photolithographie-Verfahren zu entwickeln. Seine Eigenschaften wie Präzisionsfokussierungsoptik, programmierbare Parametereinstellungen und Pulsestitch-Technologie können mit Photomaske, Photoresist und anderen Prozessen kombiniert werden, um individuelle Rezepte anzupassen, was es zu einem idealen Werkzeug für die Forschung und Produktion von Halbleiterlithographie macht.