Gebraucht AXCELIS Microlite #9293673 zu verkaufen

AXCELIS Microlite ist ein fortschrittliches Belichtungsgerät für Submikron-Wafer-Muster. Das System ist für die fortschrittlichsten Photolithographie-Prozesse konzipiert und bietet überlegene numerische Apertur und Vergrößerung für hochauflösende Musterung in Sub-200nm-Geräten. Mit seiner proprietären Präzisions-Optomechanik, der Hochkontrastoptik und den bildgebenden Algorithmen bietet Microlite eine überlegene Korrekturgenauigkeit im Vergleich zu herkömmlichen Lithographiesystemen. Fortgeschrittene Positionierungsbaugruppen sowie eine Off-Axis montierte Projektionslinse ermöglichen eine präzise Bewegung und Steuerung der optischen Komponenten dieser Einheit. Dadurch wird sichergestellt, dass kleinste Fixierungen und Anpassungen exakt durchgeführt werden, was zu einer überlegenen Musterausrichtung führt. Seine überlegene Optik und fortschrittliche Mikroskoptechnologie machen es zur idealen Wahl, Mikromuster auf Halbleiterscheiben zu drucken. Die Maschine eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen wie Photomaskenerzeugung, Nanoabdrucklithographie und andere fortschrittliche Lithographieverfahren. Die kompakte Kammer und die überlegene Vakuumleistung ermöglichen es, aggressive Gaschemien im Lithographieprozess zu handhaben. Es ist auch in der Lage, hohe Kontrastmerkmale zu bieten, die eine genaue weiche Bildgenerierung im Prototyping im Molekularmaßstab ermöglichen. Ein weiteres Schlüsselmerkmal des AXCELIS Microlite Tools ist die hochauflösende Projektionsoptik. Das Asset ist mit einer 100 µm auflösenden Projektionsoptik ausgestattet, die einzigartige Bildgebungsleistung für kleinste Funktionsgrößen bietet. Dies ermöglicht eine Vielzahl von Funktionen, einschließlich Linien und Mustern, die nur wenige Nanometer groß sind. Das Modell bietet eine hervorragende Mustereinheitlichkeit über eine breite Palette von Wafersubstraten, einschließlich Quarz, Metall und dielektrischen Materialien. Seine Gleichmäßigkeit wird durch seine enge Temperatur, Beschichtung und Vibrationssteuerung, die batchweise und hochpräzise Verfahren zur Geräteherstellung ermöglichen, weiter erhöht. Microlite kommt auch mit einer eingebauten Ausrüstung für Qualitätskontrolle und OPC-Validierung, die es ermöglicht, auch die subtilsten Variationen im Lithographie-Prozess zu erkennen. Abschließend ist AXCELIS Microlite ein fortschrittliches und vielseitiges Belichtungssystem, das die für die Nanoabdrucklithographie und andere fortschrittliche Photolithographie erforderliche hohe Auflösung bietet. Mit seinen eingebauten Bildkorrekturalgorithmen und Präzisionsoptiken ermöglicht es eine überlegene Mustereinheitlichkeit über eine breite Palette von Wafersubstraten. Infolgedessen ist es eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung von Submikron-Halbleiterbauelementen und anderen komplexen Nanostrukturen.