Gebraucht ELECTRON VISION / AMAT / APPLIED MATERIALS 3C-PM #28671 zu verkaufen

ELECTRON VISION/AMAT/APPLIED MATERIALS 3C-PM ist ein Expositionsgerät zur Unterstützung fortschrittlicher Anwendungen der optischen Lithographie. Dieses System ermöglicht eine hohe fotografische Auflösung und eine reduzierte X-Y-Bühnenbewegung. AMAT 3C-PM besteht aus einer kritischen Ausrichtungsstufe, die eine präzise Ausrichtung während der Belichtung ermöglicht, und einer hochgenauen optischen Abbildungseinheit. ELECTRON VISION 3C-PM unterstützt eine sehr hochauflösende Merkmalskontrolle mit subauflösender Ausrichtung von Mustern sowie Die-to-Die-Maske-Ausrichtung für extrem hohe Leistung. Die Maschine verfügt über ein modernes bildgebendes Mikroskop, das vollständig vorkompensierte Projektions- und Feldansichten der Pin-Grid-Array (PGA) -Stufe liefert. Es gibt auch Merkmalserkennung und Spalteinstellung Fähigkeit. 3C-PM bietet Anwendungen mit hohem Durchsatz mit einer Düsengröße von bis zu 8 Zoll für maximalen Ertrag. Es steuert alle Lithographieverfahren einschließlich Beschichtung, Musterinspektion, Belichtung und Maskenausrichtung. Jedes ANGEWANDTE MATERIAL 3C-PM Werkzeug verfügt über eine integrierte Fehlerinspektion. ELECTRON VISION/AMAT/APPLIED MATERIALS 3C-PM verfügt über eine Motorsteuerung an Bord, um eine hohe Positionsgenauigkeit zu gewährleisten. Es verfügt über ein hochgenaues Vakuum/Druckspannmodell, um eine enge Passung zwischen den Gesenkseiten zu gewährleisten und die Prozessausbeute zu maximieren. AMAT 3C-PM ist als hochflexible Ausrüstung konzipiert, die eine doppelseitige Bildgebung und eine breite Palette von Belichtungsparametern bietet, um den unterschiedlichen Produktanforderungen gerecht zu werden. Es ermöglicht den schnellen Wechsel von Photomasken unter Beibehaltung konsistenter Abbildungsbedingungen. Das System ist in der Lage, die Intensität jedes LED- oder Laser-Arrays unabhängig zu steuern und so eine gleichmäßige Belichtung über die gesamte Substratoberfläche zu gewährleisten 3C-PM ELECTRON VISION ist speziell für die Mehrschichtlithographie mit einer voll programmierbaren Optikkorrektureinheit konzipiert, die eine effiziente und genaue Korrektur für die Maskenfehlstellung ermöglicht. Es bietet auch eine fortschrittliche Steuerung der Laserenergie und ermöglicht eine dynamische Laserbelichtungssteuerung. Zusätzlich ist die Maschine mit einem umfassenden Ausrichtwerkzeug zur manuellen und automatisierten Musterübertragung auf Substrate ausgestattet. 3C-PM ist eine kostengünstige, zuverlässige und anpassungsfähige Risikoposition, die fortschrittliche Lösungen für die optische Lithographie bietet. Es wurde entwickelt, um den Prozess von hochauflösenden und qualitativ hochwertigen Gerätemustern mit niedrigen Materialkosten und ausgezeichneter Zuverlässigkeit zu vereinfachen. Dieses Modell gibt Herstellern maximale Kontrolle über den Lithographieprozess und ermöglicht es ihnen, hochwertige Geräte in kürzerer Zeit herzustellen.