Gebraucht ELECTRON VISION ElectronCure 30X #9191672 zu verkaufen

ELECTRON VISION ElectronCure 30X
ID: 9191672
E-Beam photoresist curing system.
ELECTRON VISION ElectronCure 30X ist eine leistungsstarke und zuverlässige Belichtungsanlage für Lithographieprozesse. Es kann sowohl mit tiefen UV- als auch mit Elektronenstrahl-Lithographietechniken belichten. Es hat eine einzigartige Kombination aus einem Elektronenstrahl und einer Quecksilberlampenquelle. Es bietet eine hohe Auflösung und gute Fokusstabilität, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für eine breite Palette von mikroelektronischen Anwendungen. ElectronCure 30X bietet überlegene Tiefenschärfe (DOF) Leistung. Der Freiheitsgrad ist der Bereich, der innerhalb der entworfenen Belichtungsdosis durch den Elektronenstrahl und die Quecksilberlampe belichtet werden kann. Der DOF-Bereich von ELECTRON VISION ElectronCure 30X ist unglaublich breit und ermöglicht eine Reihe von Belichtungen bis zu 0,3 µm mit dem Elektronenstrahl und 0,7 µm mit der Quecksilberquelle. Der Quellfluss von ElectronCure 30X ist programmierbar, was eine hohe Kontrolle der Belichtungsdosis ermöglicht und auch die Einstellung des Elektronenstrahls und der Lampenintensität während eines Belichtungsprozesses ermöglicht. Es hat auch eine erweiterte Auto-Fokussierung Option, die für schnelles Scannen um einen Bereich und genaue Fokussierung ermöglicht. Dies sorgt für eine gute Ausrichtung zwischen dem projizierten Design und dem Substrat und ist somit eine ideale Option für bestehende und neue Anwendungen. Das System bietet zudem eine hervorragende Dosisgleichförmigkeit, was bedeutet, dass die Dosis auch bei anspruchsvollen Konstruktionen gleichmäßig eingestellt werden kann. Es verwendet auch ein Softwarepaket für eine bessere Kontrolle über den Belichtungsprozess und verbesserte Batch-Prozessfähigkeit. Dies sorgt für einen einfachen und genauen Datentransfer zwischen verschiedenen Designressourcen und der Produktionsfläche. ELECTRON VISION ElectronCure 30X ist eine stabile, zuverlässige und robuste Einheit, die dem Anwender hochwertigste Bilder mit den konsistentesten Ergebnissen liefert. Es bietet reibungslosen Betrieb, überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit, so dass es eine gute Wahl für bestehende und neue Ausgabeanforderungen. In Bezug auf Auflösung und Fokusstabilität ist diese Maschine eines der fortschrittlichsten und vielseitigsten Belichtungssysteme, die es heute gibt. Es kann für die meisten Lithographieverfahren verwendet werden, vom einfachen 1D-Linienschleifen bis hin zu komplexen 3D-Mustern.
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