Gebraucht EXFO / EFOS 100SS #9061200 zu verkaufen

EXFO/EFOS 100SS ist ein hochmodernes Belichtungsgerät, das eine hervorragende Genauigkeit und Wiederholbarkeit für die fortschrittliche Entwicklung von Lithographieprozessen bietet. Dieses System bietet optimierte Aussetzung von Schlitzaussetzungsmasken mit einem Schritt und Wiederholung x-y Maskenstelleneinheit mit einer breiten dynamischen Reihe. EXFO 100SS nutzt eine High-End-Schwebebelichtungsmaschine mit verbesserter Positionsgenauigkeit und Stabilität während der Belichtung. Dieses Tool ist ideal für hochauflösende Direktschreibanwendungen wie Miniaturisierung aufgrund seiner hervorragenden Geschwindigkeit und Wiederholbarkeit. EFOS 100SS Exposure Asset verwendet eine programmierbare Bühne, die die Flexibilität für die automatisierte Belichtung verschiedener Spaltbelichtungsmasken erleichtert. Die Spaltbelichtungsfähigkeit des Modells umfasst eine Ausrichtungseinrichtung, die die divergenten axialen Komponenten der Strahlen zu linearen Schlitzbildern auf dem Wafer kollimiert. Dadurch wird sichergestellt, dass das Schlitzbild mit minimaler Veränderung der Größe oder Form genau auf dem Wafer positioniert wird. Um weiterhin überlegene Ergebnisse zu erzielen, verfügt das System über eine optisch ausgerichtete Doppelbeleuchtungseinheit mit Lichtquellen aus Halogen- und Laserquellen mit breiten Bandbreiten. Dies ermöglicht eine beliebige Wellenlängen-Beleuchtungsmöglichkeit, die für die Belichtung erforderlich ist. Die Dual-Source-Beleuchtung ermöglicht auch eine feinere Kontrolle der Belichtungsdosis und eine genaue Fokusverfolgung während des gesamten Belichtungsprozesses. 100SS bietet auch den Vorteil der schnellen Scan-Geschwindigkeiten über eine breite Palette von Belichtungen aufgrund seiner dynamischen Spalt-Scan-Funktionen. Die Spaltabtastfunktion ermöglicht es der Maschine, mehrere Belichtungen an verschiedenen Bereichen eines Wafers in schneller Folge und in einer programmierbaren Reihenfolge vorzunehmen. Dies gewährleistet einen hohen Durchsatz in einem Prozess, der mehrere Spaltbelichtungen beinhaltet. Darüber hinaus ist das Werkzeug mit einem sicheren Gehäuse und Luftschleuse für eine Reinraumumgebung ausgelegt. Die Luftschleuse gewährleistet die kontaminationsfreie Belichtung von geprüften Geräten und das Modell ist mit einem Staubfilter der Klasse 1-1000 ausgestattet. Abschließend setzt EXFO/EFOS 100SS Belichtungsgeräte aufgrund ihrer überlegenen Genauigkeit und Wiederholbarkeit den Industriestandard für fortschrittliche Lithographie-Prozessentwicklung. Die erweiterte Spaltbelichtungsfähigkeit und das optisch ausgerichtete duale Beleuchtungssystem bieten die Flexibilität, jede Wellenlänge genau zu belichten. Die schnellen Scangeschwindigkeiten und der Staubfilter der Klasse 1-1000 ermöglichen einen erhöhten Durchsatz und eine kontaminationsfreie Umgebung.