Gebraucht HIGHMAX UV-200 #293751573 zu verkaufen

HIGHMAX UV-200
Hersteller
HIGHMAX
Modell
UV-200
ID: 293751573
Wafergröße: 8"
UV Cure system, 8".
HIGHMAX UV-200 ist eine fortschrittliche Belichtungsanlage für den Einsatz im Bereich der Halbleiterprozesstechnik. Das System besteht aus einer Hochleistungsquarzlampe, einem Rahmen und einer Kühleinheit. Es bietet eine überlegene Gleichmäßigkeit der UV-Licht-Belichtung bis zu 200 W/cm ². Die in UV-200 verwendete Quarzlampe verfügt über ein hochoptimiertes Spektrum für überlegene Photolithographie und eine lange Lebensdauer. Der Rahmen besteht aus hochwertigen Materialien, die die Zuverlässigkeit und Stabilität der Belichtungseinheit gewährleisten. Die Kühleinheit verfügt über einen eingebetteten Wärmeableitmechanismus, der die Lebensdauer der Quarzlampe erheblich erhöht und eine konstante Arbeitstemperatur aufrechterhält, um die Wiederholbarkeit und Konsistenz aller Belichtungsprozesse sicherzustellen. Die Funktionen von HIGHMAX UV-200 ermöglichen eine präzise Kontrolle der Expositionsdosen von bis zu 10 nm. Die Maschine verfügt auch über hohe Genauigkeit Wafer Ausrichtung und Auto-Fokussierung, um eine genaue Vorspannung der UV-Belichtung zu ermöglichen. Die benutzerfreundliche grafische Oberfläche und die intuitive Programmierung machen dieses Tool einfach zu bedienen und zu bedienen. Darüber hinaus ermöglichen programmierbare Einstellungen verschiedene Belichtungsmodi, Belichtungskurven und andere anpassbare Parameter. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer hochauflösenden CCD-Kamera ausgestattet, um Bilder in Echtzeit zu erfassen, sodass Benutzer bei der Aufnahme von CCD-Bildern Verschlusszeit, Fokus, Zoom, Verschlussbereich und andere Parameter festlegen können. Das Modell verfügt außerdem über eine Lichtquelle mit zentraler Nachführung, um eine gleichmäßige Belichtung des gesamten Substrats zu gewährleisten. Das Gerät verfügt auch über Schutzfunktionen, um den sicheren Betrieb des Systems zu gewährleisten und seine Zuverlässigkeit zu erhöhen. UV-200 bietet überlegene Leistung und überlegene Zuverlässigkeit in einer Vielzahl von Halbleiterprozesstechnik-Anwendungen. Mit seinen vielfältigen Funktionen ist das Gerät ideal für Anwendungen wie Photolithographie, Mikrofabrikation, lasergestützte Verarbeitung und viele andere.
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