Gebraucht MIDAS MDA-400M #293802207 zu verkaufen

Hersteller
MIDAS
Modell
MDA-400M
ID: 293802207
Exposure system Light source module UV Light source: 350 nm to 450 nm Intensity: 30mw/cm2 Beam size: 6.25" x 6.25" Beam uniformity: 5% Microscope: Dual CCD Zoom microscope LCD Monitor, 17" (2) Attachments Magnification: 80x - 1000x Stage and controller module with time: 0.1 to 999.9 sec Stage movement: X: 5 mm Y: 5 mm Z: 10 mm Theta: 4° Exposure mode Vacuum contact Pressure contact: Hard / Soft proximity Alignment accuracy: 1.0 µm Resolution: Vacuum contact: 1 µm Pressure contact: 2 µm Soft contact: 3 µm, 20 µm Proximity: 5 µm Utilities requirement: Nitrogen: 40 psi, (6) Tubes OFA: 85 psi, (6) Tubes Power supply: 220 VAC, 15 Amp.
MIDAS MDA-400M Belichtungsgeräte sind ein fortschrittliches und vielseitiges Werkzeug für hochpräzise Lithographie und die präzise Strukturierung von Substraten in verschiedenen Branchen wie Halbleiterherstellung, Mikroelektronik, Optoelektronik und MEMS-Fertigung. Dieses Belichtungssystem integriert modernste Technologien und Funktionen, um Anwendern eine außergewöhnliche Kontrolle, Genauigkeit und Zuverlässigkeit bei der Herstellung von Mikro- und Nanoskala-Geräten zu bieten. Im Mittelpunkt der MIDAS MDA 400 M Belichtungseinheit steht ein ausgeklügelter Ausrichtungs- und Belichtungsmechanismus, der eine präzise Ausrichtung und Strukturierung von Merkmalen auf Substraten mit Submikronauflösung ermöglicht. Die Maschine verwendet eine Kombination aus fortschrittlicher Optik, Präzisionsstufen und hochauflösenden Bildgebungssystemen, um genaue und wiederholbare Belichtungsergebnisse zu gewährleisten. Der Ausrichtmechanismus verwendet innovative Algorithmen und Rückkopplungssteuerungsmechanismen, um Fehler und Drifts während des Belichtungsprozesses zu kompensieren und eine optimale Ausrichtung und Registrierung von Mustern auf dem Substrat zu gewährleisten. Das Belichtungswerkzeug ist mit einer fortschrittlichen Lichtquelle ausgestattet, die die Erzeugung von UV-, sichtbarem oder infrarotem Licht hoher Intensität für die Photoresistbelichtung ermöglicht. Die Lichtquelle ist mit einer ausgeklügelten Strahlabgabe gekoppelt, die eine präzise Steuerung der Belichtungsdosis und Energieverteilung auf dem Substrat ermöglicht. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Belichtung über die gesamte Substratoberfläche, was zu einer hochgenauen Strukturierung von Merkmalen mit ausgezeichneter Kantenschärfe und Auflösung führt. Eines der Hauptmerkmale MDA-400M Belichtungsmodells ist seine umfassende Softwareschnittstelle, die Anwendern eine benutzerfreundliche und intuitive Plattform bietet, um Belichtungsrezepte zu programmieren, Muster zu entwerfen und den Belichtungsprozess zu steuern. Die Software ermöglicht es Benutzern, CAD-Dateien zu importieren, Belichtungsparameter zu optimieren und den Fortschritt der Belichtung in Echtzeit zu überwachen. Darüber hinaus verfügt die Software über erweiterte Datenanalysetools für die Nachbelichtungsprüfung und Prozessoptimierung, mit denen Benutzer ihre Belichtungsrezepte für optimale Ergebnisse feinjustieren können. Die Belichtungsausrüstung wurde entwickelt, um eine breite Palette von Substratgrößen und -typen unterzubringen, einschließlich Wafer, Glasplatten und flexible Substrate, so dass es ein vielseitiges Werkzeug für verschiedene Anwendungen in der Mikroelektronik und Halbleiterindustrie. Das System kann einfach konfiguriert werden, um verschiedene Belichtungsmodi wie Nähe, Kontakt und Projektionslithographie zu unterstützen, sodass Benutzer die am besten geeignete Belichtungsmethode auf der Grundlage ihrer spezifischen Anforderungen auswählen können. In Bezug auf Automatisierung und Produktivität ist die Belichtungseinheit MDA 400 M mit fortschrittlichen Roboterhandhabungssystemen zum Be- und Entladen von Substraten ausgestattet, die manuelle Eingriffe minimieren und das Risiko von Kontaminationen reduzieren. Darüber hinaus verfügt die Maschine über integrierte Sensoren und Überwachungssysteme zur Echtzeit-Qualitätskontrolle und Prozessoptimierung, die eine konstante und zuverlässige Leistung in Serienumgebungen gewährleisten. Insgesamt zeichnet sich MIDAS MDA-400M Belichtungswerkzeug als hochmoderne Lösung für hochpräzise Lithographie- und Mikrofabrikationsprozesse aus und bietet Anwendern eine überlegene Kontrolle, Genauigkeit und Effizienz bei der Strukturierung von Substraten für die Fertigung fortschrittlicher Mikro- und Nanogeräte. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, seinen vielseitigen Fähigkeiten und seiner benutzerfreundlichen Oberfläche ist das Exposure Asset ein unverzichtbares Werkzeug für Forschungslabore, F & E-Einrichtungen und Produktionsumgebungen, um kompromisslose Qualität und Leistung in ihren Mikrofabrikationsprozessen zu erreichen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor