Gebraucht NITTO UM 810 #9150884 zu verkaufen

NITTO UM-810 Exposure Equipment ist ein hochmodernes Photolithographiewerkzeug zur Herstellung integrierter Schaltungen. Dieses System verwendet einen Argonfluorid (ArF) Excimerlaser mit einer Wellenlänge von 193nm, um extrem kleine Muster und Merkmale auf Halbleitersubstraten zu erzeugen. Das Gerät besteht aus zwei Komponenten: der fortschrittlichen Belichtungsoptik und dem Manipulatorroboter. Die fortschrittliche Optik besteht aus einer Energiequelle - dem Excimerlaser -, die optisch verstärkt wird, um 15mJ/pulse zu liefern. Dies ist gekoppelt mit einem Präzisionsmasken-Aligner und einer optischen Bildprojektionsmaschine, die zusammen extrem kleine Merkmale auf dem Wafer von nur 0,25 μ m Linienbreite oder weniger schaffen. Die Optik beinhaltet ein „Pinset“ zur Pixelstufenkontrolle von Ausrichtungsgenauigkeit und Overlay. Damit können Chiphersteller das Maskenmuster nicht nur genau auf den Wafer projizieren, sondern auch Maskenfehlstellungen und andere Aberrationen entfernen. Der Roboter kümmert sich um die Positionierung und Ausrichtung des Wafers, mit einem kraftgesteuerten Ausrichtwerkzeug für eine verbesserte Genauigkeit. Der Roboter ist eine vollständig autonome 4-Achsen-Anlage, die sich mit einer Positionsgenauigkeit von 0,5 μ m bewegen kann und es ermöglicht, das Substrat genau auf die Maske zurückzuführen oder auszurichten. Die hochauflösenden Sensoren des Roboters ermöglichen es, Ausrichtungsfehler zu erkennen und zu korrigieren und gleichzeitig Kantenplatzierungsfehler auf 1 μ m oder besser zu reduzieren. Diese Eigenschaften und Komponenten machen UM-810 Belichtungsmodell zu einem effizienten und präzisen Werkzeug für die Herstellung integrierter Schaltungen. Arbeiten mit einer Wellenlänge von 193nm, ist die Ausrüstung in der Lage, extrem kleine Merkmale auf dem Halbleitermaterial zu schaffen, während auch überlegene Zuverlässigkeit und Genauigkeit durch die sehr präzise und enge Toleranzkontrolle des Roboters bietet. Das System ermöglicht es Chipherstellern, die Überlagerung von Maskenmustern - der Eckpfeiler für die Erstellung komplexer und sehr kleiner Muster - mit seinem „Pin-Set“, der die Kontrolle der Ausrichtungsgenauigkeit und des Overlays auf Pixelebene ermöglicht, einfach anzupassen. Dies führt zu verbesserten Erträgen und Wirtschaftlichkeit und macht die NITTO UM-810 Exposure Unit somit zu einem unschätzbaren Werkzeug im modernen Prozess der Herstellung integrierter Schaltungen.