Gebraucht ORC EDI-8010 #9376102 zu verkaufen

ORC EDI-8010 ist eine Belichtungsanlage, die hauptsächlich für photochemische Experimente entwickelt wurde. Es ist eine UV-VIS-Bestrahlungseinheit mit niedrigem Energieniveau (unter 90J/m2min) und einem breiten Wellenlängenbereich (200-800nm). Das System bietet eine Möglichkeit, ein Substrat einer sorgfältig gesteuerten elektromagnetischen Spektralstrahlung zum Zwecke der Forschung, Entwicklung oder Prozesskontrolle auszusetzen. EDI-8010 besteht aus einer Reihe von Lampen, Stromversorgung, elektronischem Timer und einer Prozesskammer. Die Lampe ist mit einer Quarzhülle ausgestattet, die eine Röhre aus Ammoniak enthält, die mit einem nicht-strahlenden Gas gemischt ist, entweder Stickstoff oder Argon. Die Lampen erzeugen einen breiten Emissionsbereich von 200 bis 800 nm, jedoch bei relativ geringer Leistung. Die Stromversorgung liefert einstellbare Leistung bis zu verschiedenen Wellenlängen. Zusätzlich verfügt der Timer über eine Auflösung von 100 Mikrosekunden, die präzise Belichtungszeiten und Wiederholbarkeit des Belichtungsereignisses ermöglicht. Die Prozesskammer ist das Hauptmerkmal der ORC- EDI-8010; es ist eine geschlossene Umgebung, in der das Substrat verschiedenen Ebenen elektromagnetischer Strahlung ausgesetzt ist. EDI-8010 ist mit einer aktiven Kühleinheit ausgelegt, um eine stabile Temperatur für ein gleichmäßiges Belichtungs- und Wärmemanagement zu gewährleisten. Die gesamte Maschine wurde entwickelt, um Streulicht durch die Verwendung von schwarzem eloxiertem Aluminium auf seinen Außenflächen zu minimieren. Dies hilft, die in die Prozesskammer übertragene Lichtmenge zu begrenzen. Das Gerät kommt auch mit einem Sicherheitsverschluss, der entworfen ist, um zu schließen, wenn das Werkzeug nicht in Gebrauch ist, Verringerung der Möglichkeit der Exposition durch versehentliche Aktivierung des Vermögenswertes. ORC EDI-8010 wurde entwickelt, um strenge Standards für Sicherheit, Effizienz und Präzision zu erfüllen. Sein Hauptziel ist es, eine gleichmäßige Dosis niederenergetischer elektromagnetischer Strahlung kontrolliert zu liefern und die Auswirkungen der Exposition auf ein Substrat zu überwachen. Dieses Modell eignet sich für eine Reihe von photochemischen Experimenten, einschließlich, aber nicht beschränkt auf, Photolithographie, Ätzen von dünnen Filmen, Entwicklung von Kontaktlinsen und Belichtung von Photoresists. Darüber hinaus kann es auch in medizinischen Forschungs- und Entwicklungsanwendungen eingesetzt werden, insbesondere im Bereich der photodynamischen Therapie.