Gebraucht ORC EXP-2050 #9361769 zu verkaufen

BUTZKOPF EXP-2050 ist eine für hohe Leistungsfotolithographieanwendungen entworfene Aussetzungsausrüstung. Es hat einen modularen Aufbau und kann für eine Vielzahl von Belichtungen verwendet werden, einschließlich derjenigen, die eine Vielzahl von UV-, E-Strahl- und Röntgenquellen verwenden. Das System bietet eine breite Palette von Optimierungsmöglichkeiten, einschließlich optischer Ausrichtung, Detektorpositionierung und Kammertemperaturregelung. Das Gerät verwendet einen qualitativ hochwertigen bildgebenden Sensor, der ihm einen hohen Dynamikbereich und hervorragende bildgebende Eigenschaften verleiht. Die Abbildungssensoren haben auch die Fähigkeit, kleinere Merkmale zu erkennen, was zu einer verbesserten Fokustiefe führen kann. Darüber hinaus verfügt es über ein patentiertes Kammerdesign, das bei der Temperaturregelung für alle Komponenten hilft und gleichzeitig eine gleichmäßige Leistung und hohe Zuverlässigkeit gewährleistet. EXP-2050 verwendet eine patentierte intelligente Vorschubsteuermaschine, die es hilft, selbst kleinste Änderungen der Belichtungsparameter und der Belichtungszeit zu erkennen und anzupassen. Darüber hinaus umfasst sie eine Reihe von Steuerungs- und Analysetools, die ein detailliertes Verständnis des Lithographieprozesses ermöglichen. Eines der einzigartigsten Merkmale von ORC EXP-2050 ist sein variables Maskendesign. Durch die Verwendung einer dreidimensionalen verformbaren Maske gibt Ihnen dieses Tool die Flexibilität, die KEs basierend auf unterschiedlichen Prozessparametern anzupassen. Dies führt zu einer besseren Maskenleistung und verbesserten Lithographieergebnissen. Der Belichtungsprozess wird mit der integrierten Software automatisiert. Durch die Verwendung einer grafischen Benutzeroberfläche (GUI) kann der Benutzer den Belichtungsprozess über eine einzige Schnittstelle einrichten, überwachen und steuern. Darüber hinaus bietet es ein reinraumfreundliches Design, so dass es in einer Reihe von verschiedenen, beengten Räumen verwendet werden kann, auch bei der Arbeit mit gefährlichen Chemikalien. EXP-2050 lässt sich problemlos in vorhandene Lithographiegeräte inklusive Stepper und Ausrichter integrieren. Dies macht es eine große Ergänzung zu jedem vorhandenen Setup und ermöglicht es einem, höhere Auflösung und mehr Genauigkeit aus ihrem Asset zu erhalten. Prüfanforderungen werden auch mit dem integrierten Modell erfüllt, da die erweiterten messtechnischen Funktionen es ermöglichen, zuverlässige Daten aus allen Expositionen zu erhalten. Insgesamt ist ORC EXP-2050 ein robustes und flexibles Belichtungsgerät, das eine hohe Leistung bietet, um präzise und wiederholbare Lithographieergebnisse zu erzielen. Mit seinem breiten Spektrum an Optimierungssteuerungen, variablem Maskendesign und automatisierter Software ist EXP-2050 eine ideale Lösung für jeden Bedarf an High-End-Photolithographie.