Gebraucht ORC HMW 201B 5K #293636467 zu verkaufen

ORC HMW 201B 5K ist ein Belichtungsgerät für hochauflösende lithographische Maskenschreibanwendungen. Das System verfügt über 5 Kilowatt Laserleistung und ist in der Lage, Linien und Räume von 5 Mikron in Breite und Höhe zu produzieren. Es bietet Vollfeldbelichtung über eine 200mm Maske und kann für die Herstellung von Wafern verwendet werden. Zu den Hauptkomponenten der HMW 201B 5K-Einheit gehören ein Laser, ein Raumfilter, eine Strahlformungsoptik, ein Abtastspiegel, eine Maskenbaugruppe und ein Controller. Der Laser ist ein 5kW, Q-geschalteter Nd: YVO4 Festkörperdiodenpumpenlaser, der im sichtbaren Bereich für Lithographie und Maskenschreiben emittiert. Der Laser kann genaue, hochauflösende Linien und Räume bis zu 5 Mikrometer Breite und Höhe erzeugen. Die räumliche Filtermaschine begrenzt die Divergenz des Laserstrahls und erleichtert eine verbesserte Parallelität des Strahls, so dass Linien und Räume genau geschrieben werden können. Die Strahlformungsoptik umfasst eine 10x Teleskoplinse, zwei Spiegeldeflektoren und zwei 4x Teleskope. Der Abtastspiegel lenkt den Laserstrahl, um die gesamte 200 mm breite Maske in einem einzigen Durchgang abzudecken. Die Maskenstufe ist so konzipiert, dass sie die Maske in Position hält und synchronisiert bewegt, um die Vollfeldbelichtung zu erleichtern. Der Controller ist so konzipiert, dass er Präzisionskontroll- und Eingabebefehle für die verschiedenen Komponenten des Werkzeugs bereitstellt. Es verfügt über eine einfach zu bedienende Schnittstelle und bietet eine Vielzahl von Funktionen für die Eingabe von Muster- und Bilddaten. Dies gewährleistet eine gleichmäßige und zuverlässige gleichmäßige Belichtung über die gesamte 200 mm Maske. ORC HMW 201B 5K Asset ist sehr zuverlässig und beständig gegen Vibrationen, Staub und Verunreinigungen. Durch die geringe Bauform und den geringen Platzbedarf lässt es sich problemlos in eine Vielzahl von Umgebungen integrieren. Es ist auch für verbesserten Benutzerkomfort konzipiert, mit einem einfachen und intuitiven Workflow, der wenig bis gar kein Training erfordert. Das Modell eignet sich aufgrund seines breiten Funktionsspektrums, der hohen Auflösung und der präzisen Steuerung ideal für hochpräzise Lithographie- und Maskenschreibanwendungen. Es wird in der Herstellung von mehreren Arten von Halbleiterbauelementen neben innovativen neuen Anwendungen verwendet.