Gebraucht ORC HMW 680G-20EC #293636469 zu verkaufen

ORC HMW 680G-20EC ist eine Präzisionsbelichtungsanlage, die für die genaue und zuverlässige Belichtung von hochauflösenden, lithographischen Masken und anderen bildgebenden Formaten entwickelt wurde. Das Belichtungssystem besteht aus einem 680W mit Xenon gefüllten Reflektor, einem 20-Elemente-Quarzkondensator und einem Rasterabtastkopf. Das Gerät ist in der Lage, Belichtungszeiten so schnell wie 0,3-0,5 ms und mit einer maximalen Auflösung von 3,5 Mikrometern zu produzieren, ist es ideal für die Herstellung von hochwertigen lithographischen Masken. Die Maschine verfügt außerdem über ein Anti-Licht-Überbelichtungsschutzwerkzeug sowie eine hohe Ausgangsleistung, die sich selbst einstellt und von einem programmierbaren Befehlsgerät gesteuert wird. Das Modell arbeitet mit dem 680W mit Xenon gefüllten Reflektor, einem 20-Elemente-Quarzkondensator und dem Rasterscankopf, um die Belichtungszeit zu erzeugen. Der Reflektor besteht aus hochglanzpoliertem Aluminium mit einem Leistungsfaktor (PF) von 0,98 und ist damit bis zu 20% effizienter als andere Reflektoren auf dem Markt. Der Quarzkondensator hat 20 Elemente und ist so konzipiert, dass er eine optimale Beleuchtung für hochauflösende Bildgebung bietet, die Lichtdämpfung minimiert und eine gleichmäßige Lichtverteilung am Belichtungskopf erzeugt. Der Rasterabtastkopf nimmt dann ein vorgegebenes Pixelmuster auf und rastert es auf dem Substrat. Das Gerät verfügt zudem über eine hohe Ausgangsleistung, die sich selbstständig einstellt und über die manuelle oder automatisierte Steuerung eingestellt werden kann. Die manuelle Steuerung ermöglicht es dem Bediener, Belichtungszeit und Leistungsabgabe manuell anzupassen, während die automatisierte Maschine programmiert werden kann, um die Einstellungen automatisch anzupassen. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über eine automatische Nivellierungsfunktion, die es einem Bediener ermöglicht, die Belichtungszeit bei Bedarf zu erhöhen. Neben seiner Leistung bietet HMW 680G-20EC eine unübertroffene Stabilität, langfristige Wiederholbarkeit und Robustheit, die es zu einer idealen Wahl für Produktionsumgebungen machen. Alle Komponenten sind so konzipiert, dass sie extremen Temperaturen und anderen Umweltveränderungen standhalten und einen zuverlässigen Betrieb auch unter härtesten Bedingungen ermöglichen. Der Vermögenswert soll präzise und konsistente Risikopositionen produzieren und auch nach jahrelanger Nutzung wiederholbare und berechenbare Ergebnisse liefern. Insgesamt ist ORC HMW 680G-20EC ein fortschrittliches, zuverlässiges und funktionsreiches Belichtungsmodell, das für die Herstellung von hochauflösenden lithographischen Masken und andere bildgebende Anwendungen optimiert ist. Mit seiner hohen Ausgangsleistung, der entkoppelten Belichtungsgeschwindigkeit und der jahrelangen zuverlässigen Leistung ist es eine ideale Wahl für Produktionsumgebungen, die auf Genauigkeit und wiederholbaren Ergebnissen beruhen.