Gebraucht ORC HMW680GW #9255676 zu verkaufen

ORC HMW680GW ist eine bewährte Belichtungsanlage nach Industriestandard, die Elektronenstrahltechnologie für eine Vielzahl von Anwendungen in der Photomasken- und Halbleiterindustrie verwendet. Das System wurde entwickelt, um präzise Belichtungssteuerung und hochauflösende Ergebnisse mit ausgezeichneter Ausbeute, Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit zu bieten. Die Belichtungseinheit arbeitet mit einer doppelten Ablenkmaschine, um eine präzise Elektronenstrahlabtastung sowohl im Raster- als auch im Vektormodus zu ermöglichen. Der Elektronenstrahl hat einen großen Dynamikbereich, eine lineare Leistung über einen weiten Betriebsbereich und eine ausgezeichnete Wiederholbarkeit über lange Zyklen. Die Hochspannungsversorgung ist stabil und linear und die Beschleunigungsspannung des Werkzeugs ist programmierbar. Die integrierte Stromversorgung und die schnelle Scanrate des Geräts machen dies zu einer idealen Wahl für Anwendungen mit hohem Durchsatz. ORC HMW 680GW verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und bietet Anwendern eine einfach zu bedienende grafische Oberfläche. Die Modellleistung kann durch einen umfassenden Satz von Indikatoren und Sicherheitsmerkmalen überwacht und verwaltet werden, die eingerichtet, angepasst und überwacht werden können. Das hierarchische Speichersystem (HSS) und die offene Plattform des Geräts bieten flexiblen Zugriff auf verschiedene Arten von Maskendaten und ermöglichen eine vollständige Kontrolle des Datenformats und der Speicheroptionen. Die offene Plattform bietet Unterstützung für eine Reihe von verschiedenen Arten von Daten einschließlich Spot, Vektor und Flächenbelichtungsdaten in verschiedenen Formaten. Das Gerät verfügt über eine Echtzeit-Modelldatenbank, auf die zugegriffen und analysiert werden kann, um ein Höchstmaß an Maschinenleistung zu gewährleisten. Das integrierte Wafer Handling-Element des Tools umfasst eine Waferkassette sowie eine Waferstufe, die für maximale Waferintegrität und Genauigkeit ausgelegt ist. Das Modell verfügt über ein fortschrittliches Prozessgasmodul, um effiziente und kontrollierte exakte Wafer-Prozessbedingungen zu gewährleisten. Das Gerät bietet die Möglichkeit, über ein integriertes Roboterarmmodul zu verfügen, das eine einfache Maskenanwendung auf die Wafer ermöglicht. HMW680GW ist eine ideale Wahl für verschiedene Belichtungsanforderungen in der Photomasken- und Halbleiterindustrie. Mit seinen fortschrittlichen und benutzerfreundlichen Funktionen ist dieses Belichtungssystem eine der zuverlässigsten und effizientesten Lösungen für überlegene Ausbeute, Qualität und Produktivität.