Gebraucht ORC HMW680GW #9384301 zu verkaufen

ORC HMW680GW Belichtungsgeräte sind eines der modernsten Werkzeuge, die für Photomasken-Hersteller verfügbar sind. Es verwendet eine hochspezialisierte Form der Excimer-Lasertechnologie, um die extrem feinen Muster auf Photomasken zu erstellen. Mit seiner kompakten Größe, seiner hohen Produktivität und hervorragenden Ergebnissen ist es ein unschätzbares Werkzeug für Photomaskenhersteller und Forschungslabore. Das System verfügt über eine fortschrittliche Excimer-Laserquelle, die mit einer hochpräzisen optischen Maskenstufe gekoppelt ist. Die Laserquelle verwendet Xenon-Gas und die Belichtungswellenlänge beträgt typischerweise 248 nm; außerdem ist die Impulswiederholrate von 5kHz nach 25kHz einstellbar. Es ist anwendereinstellbar, um einen Bereich von Belichtungstiefen von 50nm bis mehr als 1um zu variieren. Die Belichtungseinheit verfügt auch über eine fortschrittliche Autofokusmaschine, die Laserinterferometrie verwendet, um den Laserstrahl schnell und genau auf die Photomaske zu fokussieren. Das Autofokus-Werkzeug ist mit einer hochgenauen Stufe zur xy-stufigen Positionierung gekoppelt, um die Genauigkeit und Stabilität der Maskenbelichtung weiter zu gewährleisten. Neben seiner hervorragenden lasergetriebenen Belichtungsfähigkeit unterstützt ORC HMW 680GW auch die Belichtung lichtempfindlicher Materialien über Photolithographie und Sizaigefuro. Auf diese Weise können Anwender eine Reihe von gängigen Lichtquellen wie aktuelle Lichtbogenlampen sowie spezialisierte Lichtquellen wie tiefe UV-LEDs nutzen. HMW680GW Risikoposition bietet ein hohes Maß an Kontrolle und Genauigkeit über die Risikoparameter. So können Anwender die Belichtungsparameter auch bei der Arbeit mit anspruchsvollen Substraten wie sehr dünnen Wafern auf ihre Bedürfnisse abstimmen. Darüber hinaus umfasst das Modell eine Vielzahl automatisierter Funktionen, die einen effizienteren, schnelleren und komfortableren Workflow ermöglichen. Insgesamt bietet HMW 680GW Belichtungsgeräte Fotomasken-Herstellern und Forschungslabors ein leistungsstarkes Werkzeug, um qualitativ hochwertige Muster auf Photomasken zu erzeugen. Seine vielseitige Leistung und High-End-Funktionen wie Autofokus und einstellbare Laserpulsrate ermöglichen eine effiziente Produktion von Photomasken mit extrem feinen Mustern. Das System eignet sich gut für Forschung und Entwicklung sowie für Produktionslabore.