Gebraucht OVAC OV29 #82531 zu verkaufen

OVAC OV29 ist eine Belichtungsanlage für den Einsatz in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Hochleistungs-ICs. Es wird verwendet, um bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen gleichmäßige Schichten aus hochpräzisen Prozessmaterialien auf Wafer abzuscheiden. OV29 ermöglicht die gleichmäßige Schichtabscheidung bei hohen Abscheidungsgeschwindigkeiten und mit ausgezeichneter Stufendeckung für eine Reihe von Materialien, einschließlich Dielektrika, Metalle, Polymere und Oxide. Die OVAC- OV29 besteht aus einer integrierten Vakuumkammer, Prozesskammern mit zwei Ionenquellen und einer beheizten Kammer. Die integrierte Vakuumkammer unterstützt die Aufrechterhaltung einer hohen Prozesssteuerung und einer guten Vakuumleistung während des gesamten Abscheidungsprozesses. Die dabei eingesetzten Gase können entweder quellenseitig oder substratseitig durch eine der beiden Prozesskammern gepumpt werden. Beide Kammern verfügen über hohe Source-to-Substrat-Abstandsfähigkeiten, die eine hervorragende Schrittabdeckung ermöglichen. Darüber hinaus eignet sich die im System enthaltene beheizte Kammer zur Abscheidung von dickeren und dichteren Schichten, wie z.B. High-K-Dielektrika. OV29 bietet eine hervorragende Haftung und Gleichmäßigkeit durch den Einsatz verbesserter Sichtlinientechnologie. Dadurch wird unabhängig von der Wafergeometrie eine vollständige Abdeckung des Substrats erreicht, so dass keine Lücken vorhanden sind. Die Einheit verfügt außerdem über eine Mehrprozesskammer, mit der mehrere Schichten gleichzeitig exakt abgeschieden werden können. Dadurch ist sichergestellt, dass die kompliziertesten Geräte effizient und kostengünstig hergestellt werden können. OVAC OV29 ist sowohl mit Standard- als auch mit gebundenen Wafern kompatibel und kann auch eine Vielzahl anderer Substrate wie Silizium, Galliumarsenid und Glas handhaben. Darüber hinaus ermöglicht die gleichmäßige Schichtabscheidung der Maschine den Einsatz fortschrittlicher messtechnischer Methoden wie der Atomkraftmikroskopie (AFM), um den Fortschritt jedes Verfahrensschritts zu überwachen. Dies liefert Echtzeit-Feedback und kann verwendet werden, um Prozessparameter nach Bedarf anzupassen. OV29 ist eine vielseitige und zuverlässige Prozesslösung für anspruchsvollste Anwendungen. In Kombination mit seiner überlegenen Leistung, gleichmäßigen Schichtabscheidung und Multiprozessfähigkeit ist das Tool eine ideale Option für die erfolgreiche Produktion von Hochleistungs-ICs.