Gebraucht ULTRA OPTICS MR3 #9305723 zu verkaufen

ULTRA OPTICS MR3 ist ein Belichtungsgerät von ULTRA OPTICS, Inc. für Photolithographie-Prozesse, die in der Halbleiterherstellung eingesetzt werden. Es verwendet eine kurze Wellenlänge von extrem ultraviolettem Licht (EUV), um Muster auf einen Siliziumwafer zu projizieren. Das System kann Muster in verschiedenen Größen und Auflösungen belichten und kann verwendet werden, um eine Vielzahl komplexer Halbleiterbauelemente zu erstellen. Die Belichtungseinheit besteht aus drei Elementen: der Quelle, der Projektionsoptik und der Maske. Die Quelle erzeugt die EUV-Strahlung, die durch die Projektionsoptik in einen engen, eng definierten Strahl fokussiert wird. Die Maske, die das zu belichtende Muster hält, wird im Strahlengang platziert. Die von MR3 verwendete Lichtquelle ist ein EUV-Laser, der von einem relativistisch-elektronengebündelten Laser erzeugt wird. Dieser Laser emittiert Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 nm - viel kürzer als das sichtbare Spektrum - und hat einen Strahldurchmesser von 0,6 mm. Diese Wellenlänge ist so kurz, daß sie die hochohmigen Schichten eines Siliziumwafers durchdringen kann, so daß Muster auf das Substrat geätzt werden können. Die Projektionsoptik, die als Linse für den EUV-Strahl dient, ist für hochauflösende Projektionen ausgelegt. Sie bestehen aus einer Reihe magnetooptischer und mehrschichtiger Spiegel und Linsen, die den Strahl auf den Wafer fokussieren. Die Brennweite der Optik kann so eingestellt werden, dass die Größe des projizierten Musters variiert wird. Die Maske, die aus einer Anordnung reflektierender Metallmuster besteht, ist die Schlüsselkomponente in der Maschine. Sie ist in den Strahlengang eingebracht, so daß die Muster auf den Wafer projiziert werden. Die Muster selbst, die einfache Formen oder komplexere Konstruktionen sein können, werden anhand des gewünschten Ergebnisses ausgewählt. Zusammen bilden diese drei Komponenten - Quelle, Optik und Maske - ULTRA OPTICS MR3 Belichtungswerkzeug. Als eines der fortschrittlichsten EUV-Expositionssysteme auf dem Markt ist es in der Lage, komplexe Halbleiterbauelemente mit außergewöhnlicher Geschwindigkeit und Detailtreue zu produzieren. Das Asset kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Transistoren, Logikgattern und anderen Komponenten zur Herstellung von integrierten Halbleiterschaltungen zu erstellen.