Gebraucht USHIO PE-250D3NP #9128108 zu verkaufen

USHIO PE-250D3NP
Hersteller
USHIO
Modell
PE-250D3NP
ID: 9128108
Wafergröße: 6"
Exposure System, 6".
USHIO PE-250D3NP ist eine hochwertige Belichtungsanlage, die für den Einsatz im Photolithographieverfahren in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es zeigt pulsierte Bogenlampe eines Halogenids von Metall des 375-Watt-super hohen Drucks für die Höchststände der Beleuchtung, dichte Prozesssteuerung und niedrige Zykluszeit ermöglichend. Es bietet auch eine überlegene Mustergenauigkeit für die komplexesten Prozesse, und seine stabile und wiederholbare Leistung machen es ideal für den Einsatz in Wafer und Reticle-Exposition. Das System besteht aus mehreren Hauptkomponenten, einer Lichtquelle, einer Projektionslinse, einer Retikelstufe und einer Belichtungsstufe. Die Lichtquelle besteht aus Stromversorgung und Lampe, die ein Licht hoher Intensität emittiert. Die Projektionslinse ist eine hochpräzise optische Linse, die in der Lage ist, ein detailliertes Bild auf Wafer oder Retikelmaterial zu projizieren. Die Retikelstufe hält das Substrat und bewegt das Maskenmuster unterhalb der Linse zur Projektion auf das Substrat. Die Belichtungsstufe wird von einem Rechner gesteuert und bewegt das Wafermaterial in dem erforderlichen Muster und fokussiert auch die Linse für ein klares Bild. PE-250D3NP ist in der Lage, eine numerische Apertur (NA) von 0,250 mit einem Vergrößerungsbereich von 5x bis 40x zu erreichen. Mit einem Sichtfeld von 1,4x1,9mm hat die Projektionsbildgröße einen Bereich von 0,25um bis 2,0um, wodurch sie für eine Vielzahl von Prozessen geeignet ist. Darüber hinaus ermöglicht das 4x3-Format drei einzelne Belichtungszonen innerhalb desselben Sichtfeldes, was schnellere Prozesszyklen und höhere Ausgangseffizienz ermöglicht. Das Gerät ist benutzerfreundlich und hochgradig konfigurierbar. Das Bedienfeld, das entweder an der Maschine montiert oder fernbedient werden kann, kann verwendet werden, um alle wichtigen Operationen zu steuern. Darüber hinaus ermöglicht die integrierte Diagnose eine kontinuierliche Überwachung des Fortschritts und warnt die Betreiber bei Parameteränderungen. Insgesamt ist USHIO PE-250D3NP ein ideales Belichtungswerkzeug für Anwendungen, die höchste Genauigkeit und Präzision im Photolithographie-Prozess erfordern, und ist besonders nützlich, wenn Performance-Herausforderungen auftreten. Mit seiner überlegenen Mustergenauigkeit, stabilen und wiederholbaren Leistung und schnellen Zykluszeiten ist PE-250D3NP eine ausgezeichnete Wahl für fortschrittliche Photolithographieanwendungen.
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