Gebraucht USHIO UFX-2259B-AMB01 #9359375 zu verkaufen

USHIO UFX-2259B-AMB01 ist eine Allzweck-Belichtungsanlage, die präzise und präzise Photolithographieverfahren für die Halbleiterindustrie bereitstellt. Es ist eine ideale Maschine für die Herstellung von hochzuverlässigen Mustern und die Abbildung auf verschiedenen Substraten, so dass es eine günstige Wahl für viele Anwendungen einschließlich medizinischer Geräteherstellung. Das Belichtungssystem umfasst einen Hochgeschwindigkeits-Scanmechanismus mit einem breiten Belichtungsbereich, mit dem eine Vielzahl von Produkten hergestellt werden können. UFX-2259B-AMB01 verfügt über eine große Beleuchtungsquelle, die einstellbar ist, um eine gleichmäßige Lichtintensität an der Oberfläche des Substrats bereitzustellen, wodurch reproduzierbare Ergebnisse erzielt werden können. Es bietet auch eine ultraviolette Lichtquelle, die verwendet wird, um Materialien während des Bildgebungsprozesses zu härten. Eine Vakuumeinheit sorgt für eine ordnungsgemäße Substrathaftung an der Flachbettoberfläche während des Abbildungsprozesses und ermöglicht ein hochauflösendes Bildergebnis. Eine geschlossene Kammer beherbergt das Flachbett und sorgt dafür, dass das Substrat während des Abbildungsprozesses vor Staub und anderen Partikeln geschützt wird. Die mit der Maschine mitgelieferte Steuerungssoftware ermöglicht die vollständige Kontrolle der Belichtungseinstellungen und Parameter. Verschiedene Einstellungen wie Beleuchtungspegel, Geschwindigkeit des Abtastprozesses und Belichtungsbereich können so programmiert werden, dass sie für jedes Substrat maßgeschneiderte Ergebnisse liefern. USHIO UFX-2259B-AMB01 umfasst auch einen Präzisionsausrichtmechanismus, der sicherstellt, dass das gewünschte Ziel perfekt auf dem Substrat ausgerichtet ist. UFX-2259B-AMB01 steuert effizient den Prozess der Photolithographie und ermöglicht so ein Produkt, das auf jede spezifische Anwendung von der medizinischen bis zur Elektronikindustrie zugeschnitten ist. Die kompakte Bauweise und die einstellbare Beleuchtungsquelle machen es zu einer idealen Wahl für verschiedene Anwendungen, die präzise und zuverlässige Abbildungsergebnisse erfordern. Obwohl das Tool für den professionellen Einsatz entwickelt wurde, ist es aufgrund seiner benutzerfreundlichen Oberfläche eine gute Wahl für den Einsatz in Bildungseinrichtungen. Damit eignet es sich besonders für die Einführung von Konzepten wie Mikrotechnologie und Photolithographie in Studierende. Insgesamt bietet USHIO UFX-2259B-AMB01 Exposure Asset Anwendern eine effektive und effiziente bildgebende Lösung, die beispiellose Bildergebnisse für eine Vielzahl von Substraten und Anwendungen liefert. Seine einstellbare Beleuchtungsquelle, Präzisionsausrichtungsmechanismus und geschlossene Kammer machen es zu einer geeigneten Wahl für eine Vielzahl von Branchen und Bildungseinrichtungen.