Gebraucht USHIO UFX-2259B-AMB01 #9375526 zu verkaufen
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ID: 9375526
Weinlese: 2009
Exposure system, parts machine
Shutter unit:
Exposure area, P/N; 2317-3246
Mask light source
Optical parts:
Light collecting mirror, P/N: 2306-3208
Plane mirror, P/N: 2836-7583
Projection lens, P/N: UPL-59EX
Microscope, P/N: 1000051733 / 3185-0361
Workpiece stage:
Beam splitters, P/N: 1000049959 (43.5)
Beam splitter, P/N: 1000029070 (11.5)
Motor unit (X, Y, Θ), P/N: 3026-0870
Work stage units:
Drive shaft pressure wheel unit
Drive shaft unit
Brake shaft unit
Clamp unit
Vacuum suction plate
Anti-uplifting press wheel group
Illumination / Microscope: Light cover light source gate
Micrometer (Precision sliding table), P/N: MHS2-13
OMROM Rotary encoder, P/N: E6B2-CWZ6C (2000P/R)
Reel receiving and discharging mechanism:
AC Motor, P/N: VHR206AGVJ / GV2G250
AC Motor, P/N: 2TK3GN-AGN25K
Clutch, P/N: AMC-40
(6) Drive / Brake units:
MATSUSHITA AC Servo motor (Drive unit), P/N: MSM5AZP1A
MATSUSHITA Motor driver (Drive unit ), P/N: MSD5A1P1EA
Clutch, P/N: AMC-5
Piping units:
SMC Solenoid valve workpiece blow, P/N: VCW31-5G-2-02-V-B-X41
SMC Solenoid valve workpiece vacuum, P/N: VP542R-5GZ-03A-F
SMC Solenoid valve workpiece vacuum, P/N: VCW41-5G-4-02-V-B-X27
SMC Solenoid valve workpiece vacuum, P/N: VCW3134V-02-5GS-B
PCB:
USHIO Auto micrometer, P/N: PB-1026B
USHIO Motor interface, P/N: PB-1017B
USHIO Motor interface, P/N: PB-1018B
USHIO Rotary encoder I / F, P/N: HC ENC I/F
USHIO Shutter control, P/N: PB-1040B
NDG Switcher, P/N: PB-1028B-U00
Video IN, P/N: RICE-001
Video OUT, P/N: PLUM-001
MELEC Motor control, P/N: C-864V1
Screen / Peripheral:
KEYENCE VT-7S Touch panel display
PLC:
MITSUBISHI CPU Unit, P/N: Q06HCPU
MITSUBISHI Serial data unit, P/N: QJ71C24-R2
MITSUBISHI 64-Point IN unit, P/N: QX40
MITSUBISHI 65-Point OUT unit, P/N: QY50
MITSUBISHI 2-Axis positioning unit, P/N: QD75D2
MITSUBISHI High speed counter, P/N: QD62D
MITSUBISHI Memory card, P/N: Q2MEM-8MBA
MITSUBISHI QJC1724N
MITSUBISHI QJ61BT11N
Internal wiring; Sensor line / Communication line
PC Host: AUPC
Air mount: (4) Balance air cushions
ULVAC DA-60S Vaccum pump
Static elimination: Ion gun
2009 vintage.
USHIO UFX-2259B-AMB01 ist ein Belichtungsgerät, das für den Einsatz im Rahmen eines lithographischen oder photomasken Bildgebungsprozesses entwickelt wurde. Es verwendet eine neuartige Kombination von Technologien, um eine genaue, konsistente und wiederholbare Exposition zu gewährleisten. Das System beinhaltet eine proprietäre Abbildungsmaschine, die die Hauptbeleuchtungsquelle liefert. Diese besteht aus einer Quecksilberbogenquarz-Photokathodenlampe mit einer Emissionslinie von 248 nm und einer vierphasigen Verschlusseinheit zur Steuerung der Belichtungszeit. Es ist in der Lage, bis zu 5500 Wafer pro Stunde bei einer Belichtungsleistung von bis zu 10 mJ pro cm2 zu belichten. Die Lampe hat eine Lebensdauer von bis zu 2000 Stunden, bevor sie ausgetauscht werden muss. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine konstruierte optische Plattform, die die Hauptoptik im Werkzeug bereitstellt. Dabei wird eine Kombination aus reflektierenden Spiegeln und einer speziell entwickelten Kondensatorlinse verwendet, um sicherzustellen, dass das Licht korrekt auf die zu belichtenden Wafer fokussiert ist. Dadurch wird gewährleistet, dass die Exposition eine gleichbleibende Qualität aufweist, ohne dass Intensität oder Fokus variieren. Zum Asset gehört schließlich auch ein automatisiertes Steuerungsmodell, das zur Überwachung und Steuerung des Belichtungsprozesses dient. Dies ist in der Lage, detaillierte Informationen über den Belichtungsprozess zu liefern, wie Belichtungszeiten, Anzahl der ausgesetzten Wafer, durchschnittlicher Belichtungsgrad und mehr. Es enthält auch eine bordseitige Sicherheitsausrüstung, die das System automatisch abschaltet, falls anomale Messwerte erkannt werden. Insgesamt ist UFX-2259B-AMB01 eine hochentwickelte, zuverlässige und einfach zu bedienende Belichtungseinheit, die sich ideal für den Einsatz in einem lithographischen oder photomasken Bildgebungsverfahren eignet. Es bietet Präzisionskontrolle über den Belichtungsprozess, und seine Kombination von Technologien machen es hochgenau, konsistent und jedes Mal wiederholbar.
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