Gebraucht USHIO UMA-1002-HC81JK #293642822 zu verkaufen

USHIO UMA-1002-HC81JK
ID: 293642822
Wafergröße: 8"
UV Cure system, 8".
USHIO UMA-1002-HC81JK ist ein professionelles UV-Belichtungssystem für die Leiterplattenherstellung. Es dient der Entwicklung und Übertragung von hochdetaillierten, komplizierten Schaltplänen auf die Schutzmaterialoberseite von Leiterplatten (Leiterplatten). UMA-1002-HC81JK verfügt über eine fortschrittliche bildgebende Methode, um saubere Kanten, Details und Klarheit auf dem Muster der Platine zu gewährleisten. Dies wird durch die Verwendung einer hochintensiven Xenon-Blitzlampe und Präzisionsmasken erreicht. Die integrierte Lampe und Masken sind speziell entwickelt, um den Prozess schneller und präziser zu machen. Darüber hinaus ist USHIO UMA-1002-HC81JK mit einem benutzerfreundlichen LCD-Monitor ausgestattet, mit dem die Belichtungsparameter konfiguriert werden. Dies ermöglicht die vollständige Kontrolle über Prozessgeschwindigkeit, Leistungsabgabe und Gesamtbelichtungsfläche. Über den LCD-Monitor kann der Bediener die Größe, Form und Art der zu belichtenden Leiterplatte sowie die gewünschte Auflösung einstellen. Ein eingebauter Maskenhalter ermöglicht die schnelle und einfache Einrichtung der erforderlichen Muster. UMA-1002-HC81JK ist auch entworfen, um das Risiko von Lichtaustritt zu minimieren. Es verfügt über eine volle Länge Abdeckung mit einer geschichteten Silikon-Gummidichtung. Dies dichtet die gesamte Kammer ab und verhindert, dass unerwünschtes Licht aus der Vorrichtung austritt, wodurch eine präzise Belichtung gewährleistet ist. Darüber hinaus besteht USHIO UMA-1002-HC81JK aus korrosionsbeständigen Materialien und verfügt über eine thermisch isolierte Kammer. Dadurch kann sie aus Temperaturschwankungen innerhalb der Kammer lernen und so eine genaue Belichtung gewährleisten. Das Gerät ist auch so konzipiert, dass es in universelle Montagearme passt, sodass es mit fast jeder Produktionslinie einfach zu bedienen ist. Insgesamt ist UMA-1002-HC81JK eine ideale Wahl für alle, die ihre Prototypen- und Leiterplattenentwicklungsprozesse rationalisieren möchten. Diese fortschrittliche Einheit ist in der Lage, einen genauen und präzisen Belichtungsprozess zu liefern und liefert ausgezeichnete Ergebnisse.
Es liegen noch keine Bewertungen vor