Gebraucht USHIO UMA-802-H55RM #9226138 zu verkaufen

USHIO UMA-802-H55RM Exposure Equipment ist eine integrierte Belichtungslösung für den Einsatz in Prozessen der Trockenätzung und Präzisionslithographie. Es verfügt über eine kompakte Bauweise und ist in der Lage, Hochleistungs-Hochpräzisionsbearbeitung. Dieses System ist ideal für eine Vielzahl von Belichtungsanwendungen, einschließlich Photolithographie, Pulvermetallisierung und dielektrische Filmbildung. Das Gerät verfügt über eine optimierte Substratstufe, die sowohl für die X- als auch für die Y-Achse eine hohe Positionsgenauigkeit liefert. Dies ermöglicht eine präzise Belichtungssteuerung und wiederholbare Ergebnisse. Die eingebaute Stufe enthält auch einen einstellbaren Neigungswinkel, der es dem Benutzer ermöglicht, vertikale und horizontale Korrekturen an der Belichtungsverarbeitung vorzunehmen. UMA-802-H55RM Belichtungsmaschine hat auch eine 200mm Feldsynchronisationsfunktion. Dieses Merkmal führt X- und Y-Bewegungen der Substratstufe mit einem Spiegelinversionsmechanismus aus. Dies garantiert, dass die Feldgröße immer gleich ist, egal wo die Exposition auftritt. Das Werkzeug verwendet einen eingebetteten Verschluss und Timer, mit dem der Benutzer die Zeit steuern kann, die jede Probe ausgesetzt ist. Dies hilft, etwaige Schwankungen der Exposition zu reduzieren und jedes Mal konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Zusätzlich kann der Verschluss vom Anwender elektronisch eingestellt werden, was präzisere, wiederholbare Ergebnisse ermöglicht. USHIO UMA-802-H55RM Exposure Asset verfügt über ein integriertes Wafer- und Maskenwarnerkennungsmodell. Dieses Gerät stellt sicher, dass etwaige Fehler in der Maskenausrichtung und der Waferregistrierung identifiziert werden, und warnt den Benutzer, Korrekturmaßnahmen zu ergreifen. Dies kann die Konsistenz der Belichtungsverarbeitung drastisch verbessern. UMA-802-H55RM Belichtungssystem verfügt auch über eine Kipp- und Ortsschicht-Erkennungseinheit. Diese Maschine arbeitet zusammen mit dem Wafer- und Maskenwarnerkennungstool und ermöglicht es Benutzern, Fehlstellungen zu diagnostizieren und zu korrigieren, während die Belichtung noch läuft. Schließlich ist die Anlage mit einem High-End-Vakuum-Modell ausgestattet. Diese Ausrüstung verhindert das Einbringen von Partikeln oder Verunreinigungen in die Umwelt und sorgt dafür, dass das System frei von Staub und Schmutz bleibt. Diese Vakuumeinheit verhindert auch ein Kleben von Wafern in der Kammer, was zu Schäden an der Maschine und zeitaufwendigen Reparaturarbeiten führen kann. USHIO UMA-802-H55RM Exposure Tool ist eine hochpräzise, integrierte Belichtungslösung für den Einsatz in Trockenätz- und Lithographieverfahren. Es wurde entwickelt, um wiederholbare Ergebnisse zu liefern und ist mit Funktionen wie einer 200mm-Feldsynchronisation, einem einstellbaren Neigungswinkel, einem eingebetteten Belichtungszeitgeber und einem High-End-Vakuum-Asset ausgestattet. Diese Funktionen stellen sicher, dass Benutzer während ihrer gesamten Verarbeitungsaufgaben ein hohes Maß an Genauigkeit und Konsistenz beibehalten können.