Gebraucht USHIO UMA-802-HC55RM #9392072 zu verkaufen

USHIO UMA-802-HC55RM Belichtungsanlage ist ein hochpräziser Einzelstrahlmasken-Ausrichter. Es ist für die Photolithographie und Nanoimprint-Technologie konzipiert und bietet eine hochpräzise Platzierung und Abbildung von lichtempfindlichem Material. Das System umfasst eine kompakte, luftgekühlte UV-Lichtquelle, eine 80 mm Vakuumplatte und eine automatische Vision-Ausrichteinheit. Die UV-Lichtquelle verfügt über eine Metallhalogenidbogenlampe mit einer Leistung von 250 Watt und einer Belichtungswellenlänge von 350 bis 450 Nanometern. Sein Quarzreflektor sorgt für einen präzisen Lichtschwerpunkt und seine 1500 Watt Netzteile garantieren zuverlässige und konstante Leistung. Die Lichtquelle ist sehr zuverlässig und kann über längere Zeiträume kontinuierlich genutzt werden. Die Vakuumplatte des UMA-802-HC55RM ist von hoher Konstruktion und verfügt über einen kreisförmigen Bewegungsbereich von 16 Mikrometern, was eine ausgezeichnete Platzierungsgenauigkeit von lichtempfindlichen Materialien gewährleistet. Die Platte ist so ausgelegt, dass sie ihre Genauigkeit für einen Schmutz auf ihrer Oberfläche beibehält, während die Bewegung der Platte auch durch Differentialschrauben unterstützt wird. Die Vakuumplatte ermöglicht auch die Bewegung innerhalb der X- und Y-Achse für eine genauere Ausrichtung. Die automatische Ausrichtmaschine USHIO UMA-802-HC55RM ist hochpräzise und kann so programmiert werden, dass lichtempfindliches Material auf eine voreingestellte Overlay-Vorlage gesucht und ausgerichtet wird. Dies gewährleistet jedes Mal einen genauen und wiederholbaren Vorgang. Das Ausrichtungstool umfasst auch eine Autofokus-Funktion, mit der Anwender ihre Möglichkeiten in Anwendungen wie der Nanoimprint-Lithographie nutzen können. Schließlich verfügt UMA-802-HC55RM Exposure Asset über ein erweitertes Optikpaket. Das Optikpaket enthält eine achromatische Linse, einen Strahlteiler und eine Blende. Die Optik beseitigt effektiv Aberrationsprobleme und ermöglicht Wellenlängengleichmäßigkeit und Effizienz. Die Optik verfügt zudem über ein Erweiterungsmodell im UV-Bereich, das eine höhere Bildgeschwindigkeit ermöglicht. Insgesamt ist die USHIO UMA-802-HC55RM Belichtungsanlage eine hochmoderne Produktionseinheit, die sich für die Photolithographie und Nanoimprint-Technologie eignet. Es bietet eine zuverlässige und gleichbleibende Leistung mit einem hochpräzisen Einstrahl-Masken-Aligner, einer leistungsstarken UV-Lichtquelle, einer hochgenauen Vakuumplatte, einem fortschrittlichen automatischen Sichtausrichtungssystem und einem fortschrittlichen Optikpaket. UMA-802-HC55RM ist eine ausgezeichnete Wahl für Labore, die eine zuverlässige und präzise Expositionseinheit benötigen.