Gebraucht EDWARDS EUV Ezenith #9300637 zu verkaufen

EDWARDS EUV Ezenith ist eine Anlage für Halbleiterlithographieanwendungen. Es ist ein wesentliches Werkzeug für die Herstellung hochauflösender Bilder von integrierten Schaltungen, Flachbildschirmen und mikroelektromechanischen Systemen (MEMS). Die Ezenith nutzt extreme ultraviolette (EUV) Strahlung, um Bilder auf diesen Komponenten zu erzeugen, was präzise Merkmale mit geringem Kontaminationsrisiko ermöglicht. Die Ezenith hat einen weiten Wellenlängenbereich von 7,0nm bis 40,0nm, was bedeutet, dass jede EUV-Lithographieanwendung sie nutzen kann. Darüber hinaus ermöglicht es seine große optische Apertur, lange Brennweiten zu erzeugen, die eine Abbildung größerer Größen mit höherer Auflösung ermöglichen. Die Ezenith bietet auch eine hohe Prozesswiederholbarkeit aufgrund ihrer vakuum- und temperaturgesteuerten Umgebungen sowie ihres hochsteifen Rahmens. Dadurch wird sichergestellt, dass das Lithographie-Tool jedes Mal, wenn es verwendet wird, dasselbe Muster auf einem Projekt erstellt. Die aktive Optik der Ezenith unterstützt die genaue Ausrichtung von Komponenten, während die großen dynamischen Zonenlinsen eine perfekte Abbildung von Substraten ermöglichen. Das bildgebende System ist mit hochempfindlichen Sensoren ausgestattet, die Bildklarheit und hochpräzise Ausrichtung gewährleisten und gleichzeitig die Belichtungszeit minimieren. Die Ezenith enthält auch eine anpassbare Benutzeroberfläche, die eine einfache Bedienung der Maschine und die Anpassung von Parametern für Beugung, Bildgebung und Scannen ermöglicht. Diese Funktionen ermöglichen dem Ezenith die bestmögliche Workflow-Effizienz. All dies wird durch eine erweiterte Servosteuerung unterstützt, die ein Abstürzen oder eine Fehlfunktion der Maschine verhindert. Die Servo-Steuerungsmaschine der Ezenith hilft auch, Vibrationen zu reduzieren, ein Problem, das Störungen in Bildern verursachen kann, wenn sie nicht kontrolliert werden. Schließlich bietet die Ezenith einfache Wartungsoptionen und ist damit eine ideale Wahl für Reinraum- und Halbleiterherstellungsgeschäfte. Es kann so konfiguriert werden, dass es sich selbst diagnostiziert, Probleme identifiziert und bei Bedarf eine Neukalibrierung ermöglicht. Dadurch entfällt das Herunterfahren der Maschine, während Reparaturen durchgeführt werden, wodurch die maximale Betriebszeit erreicht wird. Insgesamt ist EUV Ezenith eine unglaublich fortschrittliche Anlage für Halbleiterlithographieanwendungen. Seine vielen Funktionen, wie sein aktives Optik-Tool, Zonenlinsen, Servo-Control-Asset und benutzerfreundliche Schnittstelle, machen es zu einer perfekten Wahl für Reinraum- und Halbleiterherstellungsgeschäfte, die nach Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit suchen.