Gebraucht KLA / TENCOR IB840F #9293038 zu verkaufen

KLA/TENCOR IB840F ist eine Anlage für die Inspektion empfindlicher Waferoberflächen, die nach dem CMP-Prozess hergestellt wurden. Das Gerät besteht aus vier unabhängigen, miteinander verbundenen Modulen speziell für die Strukturüberprüfung, bestehend aus digitaler Bilderfassung, Autofokus-Kalibrierung, Beleuchtungsüberprüfung und Bildanalyse. Das DIA-Modul (Digital Image Acquisition) misst die optischen Eigenschaften einer Probe auf Pixelebene. Das DIA-Modul verwendet zwei unabhängige durchsatzbasierte Array-Kameras. Das Modul Stage Autofocus Calibration (SAFC) positioniert den zu inspizierenden Wafer genau. Das SAFC-Modul ist mit einer zweidimensionalen linearen Stufe und einem fünfstufigen Feineinstellmechanismus ausgestattet. Das IR-Modul (Illumination Review) untersucht die mikroskopischen Merkmale der Probe genau. Das IR-Modul nutzt eine breite Palette von Beleuchtungsmustern, die unterschiedliche Materialien und Strukturen aufnehmen können. Schließlich bietet das Modul Bildanalyse (IA) leistungsstarke Bildanalyse- und Charakterisierungstools. Das IA-Modul verwendet ein computergestütztes Tool, mit dem Benutzer mehrere Parameter einer Struktur messen können. Dieses Modul verwendet auch einen automatisierten Entscheidungsalgorithmus, um kritische Fehler zu erkennen. Um präzise und zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten, ist die KLA IB840F in aktuelle Technologien und Funktionen integriert, darunter adaptive Optik, variable native Pixelraten und Digitalisierer-Bandbreitensteuerung. Das System nutzt fortschrittliche Optik und Hochleistungs-Beleuchtungsquellen, um empfindliche Funktionen bis zum Sub-Mikron-Niveau zu erkennen. Seine Kamerasysteme arbeiten mit bis zu 256 Bildern pro Sekunde, um hochauflösende Bilder zu erzeugen und zu erfassen. Abgesehen davon enthält das Gerät ein Farbfilterrad, mit dem Bilder aus mehreren Farben erfasst werden können. Darüber hinaus ermöglichen die fortschrittlichen Datenanalyse-Algorithmen der Maschine es Benutzern, detaillierte physikbasierte Informationen zu extrahieren, um Fehler genau zu identifizieren. Darüber hinaus bietet seine intuitive Benutzeroberfläche eine grafische Darstellung von Daten, die Forschern hilft, Bilder einfach zu vergleichen. Abschließend ist TENCOR IB840F eine benutzerfreundliche, äußerst zuverlässige Anlagenausrüstung, die bei der Inspektion empfindlicher Strukturen und Oberflächen von Wafern verwendet wird, die nach CMP-Prozessen hergestellt wurden. Dieses Tool ist mit einer Vielzahl von Funktionen wie adaptive Optik, variable native Pixelraten, Digitalisierer Bandbreitensteuerung und Farbfilter ausgestattet. Darüber hinaus ist es mit fortschrittlichen Datenanalyse-Algorithmen integriert, die helfen, kritische Fehler zu erkennen.