Gebraucht LAM RESEARCH OX-DEP.A3 #293628077 zu verkaufen
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LAM RESEARCH OX-DEP.A3 ist eine Hochleistungsanlage, die in der Halbleiterindustrie zum Ätzen und Abscheiden von dünnen Sauerstofffilmen auf Silizium-Waferoberflächen eingesetzt wird. Dieses Verfahren wird als Ochsenabscheidung bezeichnet und dient zur Erzeugung ultradünner Schichten mit hoher elektrischer Leitfähigkeit, beispielsweise für Transistorelemente oder andere elektronische Bauelemente. Das Gerät wurde entwickelt, um mit maximaler Effizienz zu arbeiten und eine stabile Prozessplattform für eine breite Palette von Oxidätz- und Abscheidungsanwendungen zu bieten, von kostengünstiger flacher Oxidabscheidung bis zu Hochtemperatur-Oxidätzen mit hoher Maske. Das OX-DEP.A3 verfügt über ein effizientes Gasfördersystem, um eine präzise Gaskontrolle zu gewährleisten und präzise einheitliche Ätz- und Abscheideraten über die gesamte Waferoberfläche bereitzustellen. Diese Kapazität wird durch den Einsatz mehrerer Hochdurchsatz-Aluminiumoxid (Al2O3) -Futter-Baugruppen und Quarz-Piezo-Injektoren ermöglicht. Das Gerät bietet eine hohe Kontrolle auf allen Stufen des Ätz-/Abscheidezyklus - einschließlich Waferbeladung und -handhabung, einheitliche Ätz- und Abscheideraten, Gleichmäßigkeit der Materialdicke und minimale Verschmutzung. Der Ochsenabscheidungsprozess auf dem OX-DEP.A3 wird vollautomatisiert und überwacht, so dass bei hohen Geschwindigkeiten konstant Qualitätsergebnisse erzielt werden können. Die fortschrittlichen digitalen Steuerungssysteme ermöglichen es Technikern, die programmierten Prozessparameter schnell anzupassen und Echtzeit-Feedback und -Überwachung zu ermöglichen. Um eine optimale Leistung zu gewährleisten, werden fortschrittliche In-situ-Überwachungstechniken wie Ultra High Vacuum (UHV) verwendet, um Verunreinigungen zu erkennen und sicherzustellen, dass die Abscheidungsrate, die Durchflussrate und der Ionenbeschuss innerhalb akzeptabler Grenzen liegen. Das OX-DEP.A3 ist mit einer großen Edelstahlkammer von 3800mm x 2700mm x 800mm (B x T x H), einem Hochdruckbetrieb von bis zu 600mtorr und einer 10.000-Watt-Widerstandsheizfähigkeit ausgelegt. Diese leistungsstarke Anlagenausrüstung ist robust und zuverlässig und bietet die Fähigkeit, die Genauigkeit, den hohen Durchsatz und die geringe Wartung für effektive Oxidätz- und Abscheidungsprozesse zu gewährleisten. Seine Kombination aus fortschrittlichen Funktionen, fortschrittlicher Überwachungstechnologie und zuverlässiger Leistung machen es zur idealen Wahl für Forschungs- und Produktionsanwendungen.
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