Gebraucht PHYSICAL ELECTRONICS 45-410 #293608877 zu verkaufen

PHYSICAL ELECTRONICS 45-410
ID: 293608877
System TRIFT 97 P/N: 633559 Power supply: 208/240 V, 50 A, 50/60 Hz.
PHYSICAL ELECTRONICS 45-410 ist eine fortschrittliche Einrichtung Ausrüstung für das Studium und die Erstellung von dünnen Filmen verwendet. Diese Vorrichtung ist vielseitig einsetzbar und wird in der Halbleiterindustrie für Dünnschichtstrukturen und deren funktionelle Eigenschaften weit verbreitet. Es besteht aus einer nicht verdampfbaren Getterpumpe, einer Turbomolekularpumpe, einer Hochspannungs-gepulsten Stromversorgung, einer Langmuir-Sonde, einem Partikeldetektor und einem hochempfindlichen Elektronenmikroskop. Die Getterpumpe hilft, den Arbeitsraum auf einem präzise korrekten Druckniveau zu halten. Die Turbomolekularpumpe hilft bei der Verarbeitung dünner Filme mit schnelleren Geschwindigkeiten und wird verwendet, um zu verhindern, dass Verunreinigungen während des Prozesses in die Kammer gelangen. Das Hochspannungsnetzteil dient zur Erzeugung elektrischer Entladungen zur Abscheidung dünner Filme. Diese Versorgung umfasst Zeitgeber, Spannungs- und Stromregler, die es dem Benutzer ermöglichen, leicht Parameter zu ändern, um dünne Filme genau abzulegen. Mit der Langmuir-Sonde werden Plasmaeigenschaften wie Elektronen- und Ionendichten, Elektronentemperaturen und andere Eigenschaften gemessen. Der Partikeldetektor dient zur Messung von Partikeln, die bei Abscheidungsprozessen aus dem Plasma emittiert werden. 45-410 verfügt auch über ein hochempfindliches Elektronenmikroskop, das eine breite Palette von Experimenten über eine breite Palette von Vergrößerungen für dünne Filme ermöglicht. Das Mikroskop enthält hochauflösende Optik, Detektoren und Signalprozessoren zur Erfassung feinster Details in den Proben. Das Mikroskop ist mit einer Vielzahl von High-End-Detektoren zur Abbildung von Partikeln und kristallinen Strukturen in den Proben ausgestattet. PHYSICAL ELECTRONICS 45-410 gilt als Hochleistungssystem, das für verschiedene Prozesse wie gepulste Plasmaabscheidung oder -ätzung, Oberflächenanalyse und -charakterisierung, Langmuir-Sondenstudien, Partikeldetektion und Elektronenmikroskopie eingesetzt werden kann. Es ist speziell für den Zweck des Studiums und der Herstellung von dünnen Filmen, die überlegene Qualität und Präzision der Ergebnisse. Es vereint die Vorteile der physikalischen und chemischen Verarbeitung von Dünnschichten und ist zu einem wichtigen Werkzeug für Forschungszwecke in der Halbleiterindustrie geworden.
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