Gebraucht AIBT / ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 #9211571 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9211571
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Ion implanter, 12"
Wafer type: Notch
Wafer per batch: 13
(4) Load ports
(2) Cyro pumps:
Process chamber: HELIX 350 mm on board
Turbo pumps:
EDWARDS STP-A2203 WAV
EDWARDS STP-451C
Dry pumps:
EBARA 40*20
EBARA 65*40
EBARA A70W
High voltage: Drift mode voltage
Low range: 1.0 kV ~ 10.0 kV
High range: 10.0 kV ~ 80.0 kV
2006 vintage.
AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 ist ein Dual-Beam-Ionen-Implantierer und -Monitor für die Herstellung elektronischer Komponenten. AIBT iStar 300 ist ein hocheffizientes Werkzeug, das eine präzise Steuerung und genaue Implantation von Dotierstoffen für die Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. Dieser Ionenimplantator und Monitor weist eine Vielzahl von Merkmalen auf, darunter die Einstellung von Partikelstrahlströmen, die Überwachung von Strahlprofilen, die automatische Optimierung des Strahlstroms, die Einstellung der Implantattiefe und die Einstellung der Oberflächenemission. ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 verfügt über eine leistungsstarke Ionenquelle, die je nach Materialart und Anwendung mehrere verschiedene Ionenarten erzeugen kann. Dies ermöglicht eine breite Palette von Implantationen einschließlich Bor, Arsen, Phosphor und Thallium. IStar 300 verfügt zudem über eine Vakuumpumpe mit hoher Durchflussrate für schnellen Ladungsaustausch und ein Manometer zur genauen Einstellung der Implantatparameter. AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 ist benutzerfreundlich konzipiert und mit einer automatisierten Rezeptur ausgestattet, die es einfach macht, Implantationsparameter einzurichten und zu überwachen. AIBT iStar 300 verfügt über eine grafische Benutzeroberfläche, die eine einfache Einstellung von Parametern wie dem Strahlstrom, der Stromspreizung, dem Strahlprofil, der Strahlkonvergenz und der Strahlspektralreinheit ermöglicht. Zusätzlich ermöglicht dieser Ionenimplantator und Monitor die Einstellung von Implantattiefen- und Oberflächenemissionsparametern. ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 ist mit einer Vielzahl von Diagnosewerkzeugen ausgestattet, darunter ein Ionenenergiespektrometer, ein bildgebendes System zur Strahlcharakterisierung, ein elektrisches Spektrometer und eine Ionentiefenmesseinheit. Darüber hinaus ist es in der Lage, den Ionenstrahlstrom und das Strahlprofil mit einer Autopilotmaschine zu überwachen, die eine kontinuierliche Überwachung und Steuerung der Implantatparameter ermöglicht. Insgesamt ist iStar 300 ein fortschrittliches Ionenimplantat und -monitor, das eine hohe Präzision, Genauigkeit und Leistung für die Implantation von Dotierstoffen für die Herstellung elektronischer Komponenten bietet. Es verfügt über eine leistungsstarke Ionenquelle, die in der Lage ist, eine Reihe von verschiedenen Implantattypen zu erzeugen, sowie eine Vielzahl von Diagnose- und Überwachungswerkzeugen. Die grafische Benutzeroberfläche macht es einfach, Implantationsparameter einzurichten und anzupassen, so dass Benutzer das Beste aus ihrem AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 Ionen-Implantierer herausholen können.
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