Gebraucht AIBT / ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar #9210937 zu verkaufen

AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar ist ein hochpräziser Ionenimplantator und Monitor. Es wird für die Halbleiterherstellung verwendet, die eine präzise Integration von Ionen in Substrate ermöglicht. Dieser Prozess ist entscheidend für die Herstellung fortschrittlicher Elektronik. AIBT iStar implantiert mit einem horizontalen Ionenstrahl Ionen in das Substrat. Dieser Strahl wird mit einer Ionenquellenkammer und einem leistungsstarken HF-Generator erzeugt. Die Ionenquellenkammer weist eine einstellbare Beschleunigerspannung und ein Paar Ablenkspulen auf, die eine präzise Steuerung des Strahls ermöglichen. Der HF-Generator verwendet eine einzigartige Hochspannung, um hochkonzentrierte Ionenstrahlen zu erzeugen. Diese hohe Konzentration gibt eine verbesserte Dosisgenauigkeit, während die variable Beschleunigerspannung eine breite Palette von Strahlenergien bietet. ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar verwendet ein mehrachsiges Scan-System, um eine hohe Flexibilität im Implantationsprozess zu ermöglichen. Das Scan-System verwendet mehrere Galvanometer, kombiniert mit einem ultraschnellen Controller, um sicherzustellen, dass der Strahl dem gewünschten Muster folgt. IStar enthält auch eine Reihe fortschrittlicher Überwachungswerkzeuge, die Änderungen im Ionenimplantationsprozess erkennen. Dadurch wird der Bediener über mögliche Fehler informiert, wodurch der Prozess zuverlässiger wird. Schließlich enthält AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar eine Vielzahl von Sicherheitsfunktionen zum Schutz von Bedienern und Geräten. Es ist mit einem Not-Aus-System ausgestattet, das den Ionenstrahl bei erkannter Gefahr sofort abschaltet, während eine Verriegelung verhindert, dass energiereiche Strahlen ohne einen ordnungsgemäßen Kühlzyklus freigesetzt werden. Ein Leitungsfilter ist ebenfalls enthalten, um die Gefahr eines elektrischen Funkens zu verringern. Zusammenfassend ist AIBT iStar ein leistungsstarker Benchtop-Ionenimplantator und -monitor. Es bietet einen präzisen, flexiblen und sicheren Implantatprozess und ist ein wesentliches Gerät für die Halbleiterherstellung.