Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 9500xR #9121762 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 9500xR Ionenimplantator und Monitor ist ein Werkzeug zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es wird verwendet, um Ionen in den Chip oder das Wafersubstrat zu implantieren, was zur Einstellung der elektrischen Eigenschaften der Vorrichtung dient. AKT 9500xR ist ein kompaktes Gerät mit mehreren innovativen Designs, die es hocheffizient machen. Das Gerät ist mit einem Zwei-Megawatt-Hochspannungsgenerator ausgestattet, der Ionen bis zu Geschwindigkeiten von 60.000 Volt beschleunigen kann. Dies ermöglicht eine erhöhte Genauigkeit und Kapazität beim Implantieren von Ionen in das Substrat. Der Generator kann auch für eine Vielzahl von Metalldotierungsoperationen verwendet werden. AMAT 9500xR umfasst auch eine Plasmasteuerung, die dem Anwender beim Management der Umgebung während des Implantatprozesses hilft. Diese Einheit enthält elektronische Druck-, Spannungs- und Temperatursensoren, die eine präzise Steuerung der Plasmaumgebung ermöglichen. Dies trägt dazu bei, dass die maximale Implantationsrate erreicht wird, ohne dass das Substrat beschädigt wird. Das Gerät enthält auch eine maximale Ionendosis-Kontrolleinrichtung. Dieses System ermöglicht es dem Anwender, eine Dosis einzustellen, die während des gesamten Implantationsprozesses ständig überwacht wird. Dies trägt dazu bei, dass der gewünschte Implantationsgrad erreicht wird. 9500xR verfügt über eine Partikelerkennungseinheit. Diese Maschine verwendet schnell abtastende elektrische Verfahren, um Partikel oder Verunreinigungen in der implantierten Kammer zu detektieren. Dadurch wird sichergestellt, dass während des Implantationsprozesses der gewünschte Reinheitsgrad eingehalten wird. Schließlich enthält das Gerät fortschrittliche Touchscreen-Software, die dem Benutzer hilft, den Implantationsprozess einfach zu verwalten und zu steuern. Diese Software ermöglicht auch die Speicherung und Verwaltung von Implantationsrezepten. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS 9500xR ein effizientes und zuverlässiges Werkzeug zum Implantieren von Ionen in Chip- oder Wafersubstrat. Das Gerät ist hochpräzise, und seine Eigenschaften ermöglichen einen reibungslosen und kontrollierten Implantationsprozess.