Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap 3 #9192602 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap 3 (QL3) ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und Monitor für die Halbleiterproduktion. Diese Maschine kombiniert außergewöhnliche Leistung mit betrieblicher Effizienz und Kosteneinsparungen. Mit einem maximalen Energiebereich von 25 bis 400 Kiloelektronenvolt (keV) liefert das QL3 hochgenaue Implantations- und Leistungsergebnisse. Es ist eine äußerst zuverlässige und robuste Maschine, die für einen erweiterten Betrieb in einer Reinraumherstellungsumgebung ausgelegt ist. AMAT Quantum Leap 3 ist in der Lage, die Bedürfnisse vieler fortschrittlicher Halbleiterprozesse zu befriedigen. Es verfügt über hohe Durchsatzfähigkeit und Präzisions-Ionenstrahlmanipulation, gekoppelt mit fortschrittlicher Strahlsteuerungstechnologie, für maximale Effizienz. Die verbesserte Strahlsteuerung ermöglicht eine bessere Stabilität und verbesserte Genauigkeit, insbesondere in Bezug auf die Gleichmäßigkeit des Implantats. Darüber hinaus ermöglicht die hochkonfigurierbare Plattform die vollständige Optimierung jedes einzelnen Implantatprozesses. Das QL3 Ionenimplantationssystem wird von einer speziell entwickelten Hardware- und Softwarearchitektur angetrieben. Der Implantierer ist mit einem leistungsstarken Prozessor für schnelle Bearbeitungsgeschwindigkeiten großer Befehlssätze und langer Auftragsläufe ausgestattet. Die Software gibt dem Bediener eine präzise Kontrolle über die Implantat- und Überwachungsparameter, so dass er die Implantatparameter für die genauesten Ergebnisse optimieren kann. Die QL3 besteht aus zwei verschiedenen Komponenten, dem Ionenimplantator und dem Monitor. Der Ionenimplantator ist ein Hochspannungs-Niederdruckgerät, das Metallionen in das Wafersubstrat beschleunigt. Es besteht aus mehreren Stufen, wie Beschleunigungselektroden, Fokussieroptiken, Plasmaquellen, Ionenquellen und einer insgesamt unter Vakuum enthaltenen. Der Monitor verwendet modernste Rastersondenmikroskopie, um den Ionenimplantationsprozess zu überwachen und zu überprüfen. Schließlich verfügt der Ionenimplantator und -monitor über erweiterte Diagnosefunktionen. Dies ermöglicht eine eingehende Analyse des Implantatprozesses. Darüber hinaus können diese Werkzeuge zur präventiven Wartung, Prozessoptimierung und anderen Aufgaben im Zusammenhang mit der Ionenimplantation eingesetzt werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Quantum Leap 3-System sorgt für höchste Leistung und Zuverlässigkeit bei der Halbleiterproduktion.
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