Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap II #293724672 zu verkaufen

ID: 293724672
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Ion implanter, 8" FOUP Factory interface Quantum leap implanter CIM Linked Heat exchanger 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap II ist ein Ionenimplantator und -monitor, der für Präzision, Wiederholbarkeit und Genauigkeit bei der Ionenimplantation entwickelt wurde. Dieses Gerät verfügt über ein Hochspannungsnetzteil zur präzisen Ionenstrahlmanipulation und ein hochmodernes Strahlprofilierungssystem zur gleichmäßigen Ionenimplantation. AMAT Quantum Leap II bietet zudem eine überlegene Einheitlichkeit zwischen Wafern und Substraten, sodass Sie die Prozessleistung optimieren können. Darüber hinaus wurde diese Einheit entwickelt, um eine hervorragende Strahlgleichförmigkeit mit hoher Dosiswiederholbarkeit zu erzielen, wodurch genaue und konsistente Erträge aus jedem Implantationsprozess gewährleistet werden. ANGEWANDTE MATERIALIEN Quantensprung II wurde entwickelt, um beste Strahlenbildgebung und Gleichmäßigkeitsleistung zu bieten. Der Laser-Bilddetektor trägt dazu bei, dass der Ionenstrahl für eine verbesserte Implantation gleichmäßig und präzise geformt ist. Der Ionenstrahl kann auch ferngesteuert von der Strahlkontrollstation über einen USB-Anschluss für optimale Implantationsgenauigkeit bei erweiterten Operationen optimiert werden. Darüber hinaus bietet die Strahlüberwachungsmaschine eine umfassende Steuerung und Rückmeldung von implantierten Stellen, was die Datengenauigkeit verbessert, Kosteneinsparungen ermöglicht und das Risiko einer Substratkontamination erheblich reduziert. Quantum Leap II beinhaltet ein Hochfrequenznetzteil mit bis zu 100kV und 1MHz über einen weiten Betriebsbereich für eine hervorragende Ionenstabilität. Diese Funktion ermöglicht eine präzise Strahlsteuerung mit minimiertem Gas-Ionisierungs-Nebeneffekt während der Implantation. Darüber hinaus verfügt das Hochspannungsnetzteil auch über einen Selbsttestmodus, um zu überprüfen, ob sich alle Werkzeugkomponenten in einem ordnungsgemäßen Betriebszustand befinden. Auf diese Weise kann das Gut in Übereinstimmung mit den Prozessspezifikationen Ihres Implantierers bleiben. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap II verfügt über ein automatisiertes Vakuum-Modell mit einem leistungsstarken nichtreaktiven photoionisierenden Vakuummessgerät. Diese Ausrüstung hält hervorragende Vakuumniveaus aufrecht und verhindert, dass Komponenten zu heiß oder aufgeladen werden. Darüber hinaus gewährleistet es, dass der Implantationsdruck ständig auf höhere Genauigkeit überwacht wird. AMAT Quantum Leap II enthält auch HF-Plasmareinigung für die Reinigung und Dekontamination nach der Implantation. Dieses System bietet einen schonenden Reinigungs- und Dekontaminationsprozess, der Verunreinigungen durch Implantation entfernt und Strahlungsschäden auf benachbarten Substraten verhindert. Schließlich enthält APPLIED MATERIALS Quantum Leap II eine Reihe von hochentwickelten programmierbaren Sicherheitsprotokollen und Situationsanalysesystemen, um einen ordnungsgemäßen Betrieb und die Sicherheit des Personals zu gewährleisten. Diese Sicherheitsmerkmale umfassen redundante Sicherheitsschaltungen, die einen verbesserten Schutz vor plötzlichen Spannungsstößen und anderen gefährlichen Bedingungen bieten. Diese Einheit setzt auch Implantatprozesse automatisch aus, wenn die Bedingungen unsicher werden, wodurch sowohl Personal als auch Ausrüstung vor möglichen Schäden bewahrt werden.
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