Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap II #293755366 zu verkaufen
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ID: 293755366
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
Ion implanter, 12"
Process: Low energy implant
FOUP Factory interface
Quantum leap implanter
NOVAPURE egs237 scrubber
Heat exchanger
CIM
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap II ist ein Ionenimplantat & Monitor für die Waferbearbeitung. Es ermöglicht Geräteherstellern, qualitativ hochwertigere Halbleiterbauelemente bei geringeren Kosten und geringerem Energieverbrauch zu erreichen. Die Maschine ist in der Lage, sowohl energetische als auch nichtenergetische Spezies mit bis zu 40MeV Strahlenergie zu implantieren und kann die Teilchenmikrodosimetrie in Echtzeit überwachen. AMAT Quantum Leap II ist für einfache Bedienung konzipiert, mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche und erweiterten Rezeptfähigkeit für die Rezeptverwaltung. Es verfügt auch über einen integrierten Partikelentfernungsregler, um ein hochwertiges Implantat zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das System über ein hochauflösendes bildgebendes Überwachungssystem, das mittels fortgeschrittener Mustererkennungsalgorithmen das Profil der implantierten Spezies genau steuert. Die Implantationsleistung von APPLIED MATERIALS Quantum Leap II wird durch eine hocheffiziente Stromversorgungsstufe bereitgestellt, die bis zu 60A Leistung liefert. Diese Stufe wird durch eine integrierte Ionenquellkammer ergänzt, die nach den gleichen Standards wie AMAT Ion Implantation Technology gebaut wurde. Dies ermöglicht eine optimale Ionenlaichmusterung und Strahlextraktionseffizienz. Um eine maximale Prozesskontrolle und Gleichmäßigkeit der Implantation zu erreichen, verfügt Quantum Leap II über ein patentiertes Strahlüberwachungsmikroskop. Dieses Mikroskop überwacht Strahlintensität, Profil und Partikelfluenz in Echtzeit. Ein spezielles Advanced Beam Control Panel ermöglicht es dem Anwender, Parameter wie Strahlemission und Implantatparameter exakt einzustellen, um eine optimale Prozessleistung zu erzielen. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap II eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen wie Kammerkontaminationsmonitor, hoher Durchsatz und hochpräzise Prozesssteuerung. Das einzigartige Lademagazin ermöglicht es Anwendern, bequem bis zu 3000 Wafer pro Tag in die Implantatkammer zu laden, was eine flexible Implantation und Prozessoptimierung ermöglicht. AMAT Quantum Leap II ist ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug für Gerätehersteller, die qualitativ hochwertigere Geräte zu reduzierten Kosten erreichen möchten. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche und den erweiterten Funktionen können sie überlegene Prozesskontrollergebnisse und erstklassige Produktqualität erzielen.
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