Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap III #9016593 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und Monitor für kritische Ionenimplantationsanwendungen. Es ist ein vielseitiges Instrument, das sehr zuverlässige und genaue Implantationsergebnisse für eine Reihe von Halbleitern und anderen Materialien liefert. Dieser Implantierer ist mit einer Reihe fortschrittlicher technischer Funktionen ausgestattet, die auf überlegene Leistung und höhere Zuverlässigkeit ausgelegt sind. AMAT Quantum Leap III besteht aus der Hauptausrüstung, einem Scanner und einem Nutzungsüberwachungssystem. Die Haupteinheit besteht aus zwei verschiedenen Komponenten, der Leistungseinheit und der Laser/optischen Einheit. Das Stromaggregat bietet einen maximalen Strahlstrom von bis zu 50 μ A und kann eine Reihe von Implantationseinstellungen für unterschiedliche Anforderungen bereitstellen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Quantensprung III besteht aus einer robusten, zuverlässigen Strahlabtastmaschine für präzise und genaue Implantationsergebnisse. Der Scanner besteht aus einem schnell abtastenden chromatischen optischen Werkzeug, das eine Strahlgröße von bis zu 8 μ m erzeugen kann. Das Laser/optische Asset kann eine vollautomatische Strahlerzeugungssteuerung bereitstellen, was bedeutet, dass jeder Implantationsauftrag an die gewünschte genaue Größe, Form und Implantationsprofil angepasst werden kann. Quantum Leap III verfügt auch über ein hochmodernes Nutzungsüberwachungsmodell, das detaillierte Nutzungsinformationen wie Strahlstrom, Strahlgröße, Implantationstiefe, Gesamtdosis, Pulsenergie und Implantatzeit bereitstellt. Dieses Gerät kann auch so eingerichtet werden, dass es ein Kontrollprotokoll für den gesamten Implantationsprozess anzeigt, mit dem Genauigkeit und Konsistenz validiert werden können. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III wurde entwickelt, um die Anforderungen von fortschrittlichen, hochpräzisen und niedrig dosierten Ionenimplantaten zu erfüllen. Dieses System ist mit einer Vielzahl von Materialien kompatibel, die in Halbleiterprozessen verwendet werden, was es zu einem idealen Werkzeug für kritische Implantationsaufgaben macht. Darüber hinaus hat das Instrument einen reduzierten Platzbedarf und eignet sich aufgrund seiner vergleichsweise kompakten Größe sehr gut zur Integration in bestehende Ionenimplantationsprozesse. Insgesamt ist AMAT Quantum Leap III ein fortschrittlicher, hochzuverlässiger und genauer Ionenimplantator und -monitor. Seine fortschrittlichen technischen Eigenschaften und sein robustes Design machen es zu einem idealen Werkzeug für eine breite Palette von Halbleiter- und anderen Materialien-Implantationsanwendungen.