Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap III #9066908 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III ist ein fortschrittlicher Dual-Beam, Hochstrom-Ionen-Implantierer und -Monitor, der in der Lage ist, eine präzise und zuverlässige Implantation von Ionen über eine breite Palette von Substratmaterialien bereitzustellen. AMAT Quantum Leap III nutzt im Kern Beamlinien- und Ionenquellentechnologien, gekoppelt mit fortschrittlichen Strahl- und Quellenbehandlungen, um eine hochgenaue und präzise Implantation von Ionen in Substratmaterialien zu ermöglichen. Diese fokussierte Ionenenergie und der Implantationsstrom ermöglichen gleichzeitig eine weitreichende Implantation. Die verschiedenen Beamline-Komponenten von APPLIED MATERIALS Quantum Leap III wurden entwickelt, um die Geschwindigkeit und Genauigkeit des Ionenimplantationsprozesses zu optimieren. Die Beamline, einschließlich Ionenquelle, Strahlsteuereinheit, Strahlablenkeinheit und optimierte Optik, sind alle optimiert, um die bestmögliche Ionenimplantation für eine breite Palette von Substratmaterialien, einschließlich Metallen, Halbleitern und Polymeren, bereitzustellen. Diese leistungsstarke Kombination aus Strahl- und Quellkomponenten ermöglicht es Quantum Leap III, Implantationsstrom von nur zehn Nanoamps bis zu zehn Kiloamps zu liefern, alles abhängig von den gewünschten Implantationsergebnissen. Neben seinen Strahl- und Quellkomponenten ist AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III auch mit einem Monitor ausgestattet, um Echtzeitdaten zum Ionenimplantationsprozess bereitzustellen. Der Monitor, der aus einer Kammersteuerung und fortgeschrittener Diagnostik besteht, zeigt die verschiedenen Parameter wie Implantationsstrom, Energie und Tiefe der Implantation. Auf diese Weise können Anwender das Implantationsverhalten in Echtzeit anzeigen und bei Bedarf sofortige Einblicke oder Änderungen ermöglichen. Diese Funktion hat sich bereits als unglaublich nützlich für die Verbesserung der Implantationsgenauigkeit und Leistung erwiesen. AMAT Quantum Leap III Ion Implanter and Monitor ist ein hocheffizientes und effektives System, das eine qualitativ hochwertige und zuverlässige Implantation für eine breite Palette von Substratmaterialien ermöglicht. Die fortschrittliche Kombination aus Beamline-Komponenten, Monitor und Diagnose bietet Anwendern präzise, leistungsstarke Implantation sowie Echtzeitdaten, damit Benutzer den Prozess nach Bedarf anpassen oder optimieren können.