Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus #293821575 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus
ID: 293821575
Weinlese: 2006-2011
High current ion implanters 2006-2011 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus Ionen-Implantierer und -Monitor ist ein Ionen-Implantationsgerät, das Ionen mit erhöhter Kontrolle und Genauigkeit liefert. Es wurde entwickelt, um hochwertige Implantate mit optimierter Tieftemperaturhärtung zu liefern und kann für eine Vielzahl von Substraten verwendet werden, einschließlich Silizium, Aluminium, Lithographiebeständigkeit und Dünnschichtmaterialien. AMAT Quantum X Plus nutzt Mehrfeldtechnologie, die Doppelfelder mit unabhängig einstellbaren Beschleunigungsspannungen aufweist. Dies ermöglicht eine höhere Implantatgeschwindigkeit und -genauigkeit und ermöglicht eine Anpassung der Operation an den spezifischen Implantationsprozess. Die Maschine verfügt auch über eine digitale Ionenstrahlquelle, die hilft, konsistente Ionenstrahlen für präzise Implantate zu gewährleisten. Die Ionenstrahlquelle ist aus einer einteiligen Aluminiumlegierung gefertigt und soll den Wartungsaufwand reduzieren und die Langlebigkeit erhöhen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Quantum X Plus ist für eine präzise und leistungsstarke Überwachung ausgelegt. Das Überwachungssystem ermöglicht die genaue Einstellung von Dosis-, Energie- und Ionenarten sowie die Überwachung von Parametern wie Temperatur und Druck. Dadurch wird sichergestellt, dass das gewünschte Ergebnis erzielt wird und die Parameter sorgfältig überwacht und eingehalten werden. Quantum X Plus ist mit einem kompakten, platzsparenden Platzbedarf ausgestattet und umfasst eine Reihe von Services und Support-Optionen, um sicherzustellen, dass die Maschine weiterhin läuft und optimale Ergebnisse erzielt werden. Diese Dienstleistungen umfassen Anwendungstechnik, Systemwartung und Benutzerschulung. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus ein fortschrittlicher und zuverlässiger Ionenimplantator, der eine erhöhte Genauigkeit und Präzision bei der Durchführung einer Reihe von Ionenimplantationsprozessen ermöglicht. Die Multi-Field-Technologie und die digitale Ionenstrahlquelle wurden entwickelt, um die Implantationsgeschwindigkeit und -genauigkeit zu maximieren und den Wartungsaufwand zu reduzieren.
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