Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X #9225919 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X
ID: 9225919
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
High current ion implanter, 12" 2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantat und Monitor-Kombinationsgerät. Dieses System soll die effiziente Implantation und Überwachung von Ionenimplantaten für die Herstellung von Halbleiterbauelementen erleichtern. Diese Kombinationseinheit besteht aus einem hochenergetischen Ionenimplantator sowie einem optischen Emissionsspektrometer (OES) zur Messung des Ionendopingspiegels während der Implantation. AMAT Quantum X Implantat kann mehrere Ionenquellen aufnehmen, einschließlich Bor, Borverbindungen, Kohlenstoff, Stickstoff, Phosphor, Arsen, Antimon und andere Dotierstoffe. Es hat eine breite Palette von Energieniveaus und Ionenmasse, mit einstellbarer Strahlkonzentrizität für bis zu 350 keV und 10-25µm Spotgrößen. Es verfügt außerdem über eine HF-geschützte Vakuumkammer, die die Implantation hochempfindlicher Verbindungen ermöglicht. Zusätzlich verwendet es eine fortschrittliche Regelungsmaschine, um eine präzise Kontrolle der Materialabscheidung zu gewährleisten. Die OES-Komponente des Werkzeugs ermöglicht Echtzeitmessungen von Ionendopingspiegeln während der Implantation. Unter Verwendung eines zweikanaligen optischen Spektrometers mit einem erweiterten Nachweisbereich von 185nm bis 1000nm misst das OES aktive Konzentrationen von Dotierstoffen bei hoher Signalempfindlichkeit und Wiederholbarkeit. Darüber hinaus können eingebettete Algorithmen Instabilitäten in den Implantat-Prozessparametern identifizieren und melden, um Implantatanomalien schnell zu identifizieren und zu adressieren. Die Kombination aus dem Hochleistungs-Ionen-Implantierer und dem optischen Emissionsspektrometer macht APPLIED MATERIALS Quantum X zu einer idealen Wahl für die Hochdurchsatzherstellung fortschrittlicher IC-Geräte. Durch die schnelle und präzise Implantation und Messung der Ionendopingwerte reduziert es die Prozessvariabilität und verbessert die Geräteausbeute. Es bietet auch eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche (GUI), die bei der Programmierung, Überwachung und Datenprotokollierung unterstützt. Um einen zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten, umfasst Quantum X mehrere Sicherheitsfunktionen wie Ionenquellenauslösung und Fernabschaltung. AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X kann mit seinem robusten Design und der integrierten Performance Monitoring-Komponente in verschiedene fortschrittliche Plasmaätz- und Abscheidungsprozesse integriert werden. Seine Langlebigkeit und Flexibilität machen es zum idealen Implantatmodell für Halbleiterbauelemente und die MEMS-Herstellung.
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