Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS / VARIAN VIISta HCP+ #293827340 zu verkaufen
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ID: 293827340
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
High current ion implanter, 12"
(4) Load Ports
Linear Track
(6) BROOKS AUTOMATION Dual arm robots
DBM2706-V2 Robot controller
Signal tower (4 Lights)
Monitor
Keyboard
E/S module:
Platen
Roplat
E-Clamp PSU
6A51 IAN Computer
6A51 NCS Computer
6A26 HV PSU
6A37 Turbo PSU
Decel 2 PS control
6A50 Transport module control
6A49 TMC amplifier assembly
Dual Head OFG power supply
6A Pneumatic interface
On BOARD Cryo control
CTI IS Control
6A11 Process module control
6A14 PMC amplifier assembly
6A13 Dual PFG PS Control
6A16 PFG PSU
(4) 6A Analog / Digital I/O Interfaces
Trek 681B 6A Chuck PSU
Process module controller I/V
Facilities module:
7A4 Pneumatics interface
7A5 Main PD Interface
7A7 DI PS Control
GLASSMAN 7A8 HV PSU
SERIES 1000 7A9 HV PSU
Exhaust conductivity monitor control
7A15 Signal tower controller
MGE UPS systems UPS
Analyzer Magnet 90 deg module:
LAMBDA 2A1 Genesys DC PSU
LAMBDA / EMI 2A2 ESS PSU
2A3 Analog / Digital I/O Interface
2A 2 Axis motor control
2A5 Analog / Digital I/O Interface
2A Decel 1 Suppression PSU controller
2A 90 Magnet PS Control
2A8 Analog / Digital I/O Interface
2A Beamline pneumatics interface
2A Analyzer corrector magnet
2A PS Interface
2A Vacuum pump interface
EDWARDS SCU-1500 2A Turbo controller X2
2A Source magnet PSU
2A Source magnet PS control
2A Analog / Digital I/O Interface
2A Analog / Digital I/O Interface
2A Manipulator control
SERIES 1000 SRC Suppression power supply
Setup cup controller monitor
Filament power supply
Quad Magnet polarity switch
Decel -1 Focus power supply
Source suppression P.S controller
Analyzer magnet:
Rod controller
Rod controller PSU
Decel 2 Suppression PSU Control
Decel 2 Suppression PSU
Decel 2 Focus PSU
70 Magnet PS control
Analyzer corrector magnet PSU
X6 Analog / Digital I/O Interface
3A Multipole PSU
3A Rod controller down
Source: Head, Bushing, Electrode
Gas cab:
Gas modules:
Pos 1 HP Argon CGA 530 (MFC: 1600)
Pos 2 SDS BF3 1/4 VCR (MFC: 1662)
Pos 4 SDS GeF4 1/2 VCR (MFC: UFC-1663)
Pos 3 SDS AsH3 1/2 VCR (MFC: GF120XSL)
Gas cab control:
(3) UNIVERSAL 1A22 to 24 Analog/Digital I/O Interfaces
1A20 Source isolation controller
LAMBDA Programmable supply
TDK / LAMBDA Programmable supply
TDI Filament PSU
LAMBDA EMI ESS PSU
Gas box power distribution
Vacuum system:
Roughing pump
EBARA A10S Roughing pump beamline and source
EBARA A10S-B Roughing pump load lock
(2) CTI IS-1000 Cryo compressors
Others:
CVCF assembly
VESDA
Chiller
Transformer
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/VARIAN VIISta HCP + ist ein renommiertes Ionen-Implantier- und Überwachungsgerät, das in der Halbleiterindustrie für Hochstrom-Implantationsprozesse weit verbreitet ist. Dieses fortschrittliche Werkzeug ist aufgrund seiner außergewöhnlichen Leistung, Präzision und Zuverlässigkeit in Ionenimplantationsanwendungen ein Grundnahrungsmittel in Halbleiterfertigungsanlagen. Eines der Hauptmerkmale von AMAT VIISta HCP + ist seine Vielseitigkeit und Fähigkeit, eine breite Palette von Implantationsprozessen mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit durchzuführen. Das System ist für den Umgang mit verschiedenen Materialien und Implantationsionen konzipiert, so dass es für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsanforderungen geeignet ist. Ob zum Dotieren, Glühen oder anderen Ionenimplantationsprozessen, VARIAN VIISta HCP + bietet unübertroffene Flexibilität und Effizienz. ANGEWANDTE MATERIALIEN VIISta HCP + ist mit modernster Technologie und Komponenten ausgestattet, die eine präzise Steuerung und Überwachung des Ionenimplantationsprozesses ermöglichen. Das Gerät verfügt über fortschrittliche Beamline-Komponenten, einschließlich Ionenquellen, Beamline-Optik und Energieanalysatoren, die nahtlos zusammenarbeiten, um die Zufuhr von Ionen mit der gewünschten Energie und Dosis in das Halbleitersubstrat zu gewährleisten. Dieser Kontrollgrad ist entscheidend für die Erzielung einheitlicher und reproduzierbarer Implantationsergebnisse in einer Charge von Wafern. Darüber hinaus ist VIISta HCP + mit ausgeklügelten Überwachungs- und Rückkopplungsmechanismen ausgestattet, die eine Echtzeitüberwachung des Implantationsprozesses ermöglichen. Die Maschine überwacht kontinuierlich Schlüsselparameter wie Strahlstrom, Energie, Dosis und Strahlform, um eine optimale Leistung und Prozessstabilität zu gewährleisten. Abweichungen von den eingestellten Parametern werden schnell erkannt und korrigiert, wodurch konsistente und qualitativ hochwertige Implantationsergebnisse gewährleistet werden. Zusätzlich zu seinen Leistungs- und Überwachungsfunktionen bietet AMAT/APPLIED MATERIALS/VARIAN VIISta HCP + eine benutzerfreundliche Oberfläche und intuitive Software, die die Bedienung und Datenanalyse vereinfacht. Bediener können Implantationsrezepte einfach einrichten, Prozessparameter anpassen und den Fortschritt des Implantationsprozesses über die Benutzeroberfläche des Tools überwachen. Die Software bietet auch Datenprotokollierungs- und Analysetools, die die Prozessoptimierung und das Datenmanagement erleichtern. Darüber hinaus ist AMAT VIISta HCP + mit einem Fokus auf Zuverlässigkeit und Verfügbarkeit konzipiert, entscheidende Faktoren in Halbleiterherstellungsumgebungen, in denen Ausfallzeiten erhebliche Kosteneffekte haben können. Die Anlage verfügt über robuste Konstruktion, hochwertige Komponenten und effiziente Wartungsverfahren, die das Risiko von Modellausfällen minimieren und die Produktivität maximieren. Routinemäßige Wartungsaufgaben werden rationalisiert, und präventive Wartungspläne sind vorhanden, um die langfristige Leistung und Langlebigkeit der Ausrüstung zu gewährleisten. Insgesamt stellt VARIAN VIISta HCP + Ionenimplantat- und Überwachungssystem eine hochmoderne Lösung für Halbleiterhersteller dar, die präzise, zuverlässige und vielseitige Ionenimplantationsmöglichkeiten suchen. Mit fortschrittlicher Technologie, außergewöhnlicher Leistung und benutzerfreundlichem Design ist APPLIED MATERIALS VIISta HCP + ein wertvoller Vorteil bei der Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente. Ob für Forschung und Entwicklung oder Hochvolumenfertigung, diese Einheit liefert konsistente und wiederholbare Implantationsergebnisse, die den hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht werden.
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