Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9243467 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II ist ein Top-of-the-Line-Ionen-Implantierer und -Monitor für die Halbleiterindustrie. Dies ist ein vielseitiges, hochbelastbares Gerät, das verschiedene Arten von Ionen in Substrate für die Produktion von erweiterten Displays, integrierten Schaltkreisen und Speichergeräten implantieren kann. Es wurde entwickelt, um schnell und zuverlässig Ionen in Substrate für gleichbleibende Produktqualität und Leistung implantieren. AMAT xR80 Leap II ist ein Röntgenionenimplantator, der aus einer Hochdruckionenquelle, einer Implantatkammer, einer Strahllinie, einer massengetrennten Strahllinie und einem Wafer-Handler besteht. Die Ionenquelle enthält einen Wolframfaden, der die zu implantierenden Ionen in das Substrat liefert. Die Implantatkammer beschleunigt dann die Ionen auf eine zum Eindringen in das Substrat erforderliche Geschwindigkeit. Die Strahllinie erzeugt einen gleichmäßigen, gleichmäßigen Ionenstrahl entlang eines bestimmten Weges, und eine massengetrennte Strahllinie sortiert die Ionen nach ihrer Masse, um sicherzustellen, dass der richtige Ionentyp in das Substrat implantiert wird. Schließlich legt der Wafer-Handler das Substrat in die exakte Position, die zum Implantieren benötigt wird. ANGEWANDTE MATERIALIEN xR80 Der Ionenimplantierer von Leap II wird von einer CMC-7000XR Software-Suite gesteuert, die die vollständige Kontrolle über alle Hauptmerkmale des Systems bietet und präzise Implantationsparameter ermöglicht. Es enthält auch ein integriertes Optimierungsfenster, mit dem Ingenieure verschiedene Implantationsszenarien ändern und vergleichen können, um die beste Leistung von jedem produzierten Gerät zu gewährleisten. XR80 Leap II eignet sich gut für Aufgaben wie Verunreinigungsgettering, Maskierung, Oberflächenaktivierung und Passivierung. Der Ionenimplantierer und -monitor bieten eine präzise Prozesskontrolle, die hohe Produktausbeuten und gleichbleibende Produktqualität gewährleistet. Darüber hinaus unterstützt AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II fortschrittliche Strahlenergie-Kontrollsysteme und ausgefeilte Fehleranalyse-Tools für erweiterte Diagnosefunktionen. AMAT xR80 Leap II ist ein fortschrittlicher, hochbelastbarer Ionenimplantator und -monitor, der den immer strengeren Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Das vielseitige Design und die integrierte Software-Suite ermöglichen es Ingenieuren, verschiedene Arten von Ionen schnell und zuverlässig in Substrate zu implantieren, was zu zuverlässiger, konsistenter Geräteleistung führt.