Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9329404 zu verkaufen
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ID: 9329404
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
High current implanter, 8"
Processor module
Beamline module
Source services module
Processor rack
Mobile PC and desktop
Clean room PC
Signal tower
TEM Probe
ISO TX
Mains matching TX
Beamline controllers PSU's and assy:
Pre accel / Mag controller
Beamline Inst
Vacuum controller
Turbo controllers
Focus PSU
Decel PSU
A Mag PSU
Pre A converter PSU
Source mag PSU
Suppression PSU
Beam path components source / Extraction / Flight tube / MRS and PFS assy:
Source head type: IHC
Extraction type: Dual bellows
Flight tube
MRS
Pre-defining
PFS Type: HD
Control system: MOTOROLA 68040 Series
PC based operator interface
Gas cabinet:
SDS Module: AsH3 (SDS) / PH3 (SDS) / BF3 (SDS) / SDS
Purge Module
PSU's Controllers and assy:
Gas and temperature controller
Filament PSU
Arc PSU
Bias PSU
DPS
Pre A HV stack
G2 PSU, 8"
Source ISO TX
Vacuum system:
LEYBOLD 1000C Turbo pump
LEYBOLD 361C MRS Turbo pump
LEYBOLD Turbotronik NT20 Turbo pump controllers
EDWARDS iQDP40 Beamline dry pump
CTI-CRYOGENICS OB -10 Side cryo pump
CTI-CRYOGENICS OB -10 Rear cryo pump
CTI-CRYOGENICS 9600 Side cryo compressor, 220 V
CTI-CRYOGENICS 9600 Rear cryo compressor, 220 V
Processor PSU's controller and assy:
Wheel and components
Spin motor
Gripper
Transfer arm
Clip actuator
Blade
A/B Sensor
Tilt assy, 0-7°
PFS DP Box
Beam stop
Beam profiler
Filament PSU (PFS)
Wafer loader:
Carousel
Indexer
W/L Door
Oriented
Cassettes / Trays: (3) Trays
Arm servo PSU
Arm servo controller
Control Rack:
DAQ PDU
Option chassis
Target system installer
W/L Controller
W/L Vacuum
Ground PDU
Target system vacuum
Spin / Scan controller
Direct drive interface
Plasma flood chassis
Amp scanner
Amp spinner
Spin / Scan PDU
Bleed resistor
VME:
CPU Main board
Loop controller
Tetrode source head
80 keV Stack with resistors on top
G2 Power supply side of gas cabinet
G2 Resistor next to source head
Source transformer
ISO Transformer W/L area
Larger beam / Stop
Decal chassis under B/line
HD PFS
Operating system: Windows NT
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II ist ein vorgefertigter Ionenimplantator und Monitor. Dieses Gerät ist speziell für die Implantation und Überwachung von sehr kleinen Substratgrößen, wie Wafer-Chips, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden, ausgelegt. Der Leap II ist in der Lage, Hochdurchsatz-Implantation und Echtzeit-Überwachung. Das Hauptmerkmal des Leap II ist seine Fähigkeit, mit einer Vielzahl von Implantatgasen und Dotierstoffmaterialien zu arbeiten. Mit der xR80 Plattform ist der Leap II in der Lage, Implantate bei Temperaturen bis -100 ° C zu präzisieren. Es verfügt über einen Energiebereich von bis zu 800 keV, der eine stärkere Kontrolle des Implantationsprozesses ermöglicht. Darüber hinaus verfügt der Leap II über eine extrem effiziente mechanische Abkühlung, die eine schnellere Aufwärm- und Abkühlzeit ermöglicht. Dies ermöglicht kürzere Taktzeiten und einen effizienteren Prozess. Der Leap II verfügt außerdem über ein hochauflösendes digitales Bildgebungssystem zur Inline-Substratbildgebung, um die Genauigkeit der Implantationen sicherzustellen. Dieses Gerät verwendet eine CCD-Kamera, um hochauflösende digitale Bilder der Substrate zu erfassen, was eine genaue Prozesskontrolle ermöglicht. Diese Überwachungsmaschine bietet Echtzeit-Feedback zur Prozessoptimierung. Das Leap II verfügt über ein fortschrittliches Wafer-Überwachungswerkzeug, das fortschrittliche mechanische, optische und elektrische Komponenten kombiniert, um genaue Messungen verschiedener Parameter während der Implantation bereitzustellen. Mit diesem Monitoring-Asset können potenzielle Fehler erkannt und verhindert werden. Die einzigartige xR80-Plattform des Leap II verfügt auch über integrierte Steuerungssoftware, die eine verbesserte Prozessverfolgung und -steuerung bietet. Diese Software ermöglicht eine bessere Prozessoptimierung und Prozessnachverfolgbarkeit und kann an spezifische Prozess- oder Anwendungsanforderungen angepasst werden. Neben den leistungsstarken Wellenanalyse- und Prozessleitsystemen verfügt der Leap II auch über ein High-End-Robotermodell für automatisierte Installationen. Diese Roboterausrüstung kann verwendet werden, um auch die komplexesten Installationen durchzuführen, was eine weitere Prozesskontrolle und eine erhöhte Effizienz ermöglicht. Insgesamt ist AMAT xR80 Leap II ein leistungsstarker vorgefertigter Ionenimplantator und Monitor, der eine effiziente Implantations- und Echtzeit-Substratanalyse bietet. Die fortschrittliche Steuerungssoftware ermöglicht die Rückverfolgbarkeit von Prozessen und das integrierte Robotersystem bietet automatisierte Installationen. Dieses Gerät ist perfekt für Halbleiterchip-Hersteller, die nach effizienten und präzisen Implantationen suchen.
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