Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9329404 zu verkaufen

ID: 9329404
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
High current implanter, 8" Processor module Beamline module Source services module Processor rack Mobile PC and desktop Clean room PC Signal tower TEM Probe ISO TX Mains matching TX Beamline controllers PSU's and assy: Pre accel / Mag controller Beamline Inst Vacuum controller Turbo controllers Focus PSU Decel PSU A Mag PSU Pre A converter PSU Source mag PSU Suppression PSU Beam path components source / Extraction / Flight tube / MRS and PFS assy: Source head type: IHC Extraction type: Dual bellows Flight tube MRS Pre-defining PFS Type: HD Control system: MOTOROLA 68040 Series PC based operator interface Gas cabinet: SDS Module: AsH3 (SDS) / PH3 (SDS) / BF3 (SDS) / SDS Purge Module PSU's Controllers and assy: Gas and temperature controller Filament PSU Arc PSU Bias PSU DPS Pre A HV stack G2 PSU, 8" Source ISO TX Vacuum system: LEYBOLD 1000C Turbo pump LEYBOLD 361C MRS Turbo pump LEYBOLD Turbotronik NT20 Turbo pump controllers EDWARDS iQDP40 Beamline dry pump CTI-CRYOGENICS OB -10 Side cryo pump CTI-CRYOGENICS OB -10 Rear cryo pump CTI-CRYOGENICS 9600 Side cryo compressor, 220 V CTI-CRYOGENICS 9600 Rear cryo compressor, 220 V Processor PSU's controller and assy: Wheel and components Spin motor Gripper Transfer arm Clip actuator Blade A/B Sensor Tilt assy, 0-7° PFS DP Box Beam stop Beam profiler Filament PSU (PFS) Wafer loader: Carousel Indexer W/L Door Oriented Cassettes / Trays: (3) Trays Arm servo PSU Arm servo controller Control Rack: DAQ PDU Option chassis Target system installer W/L Controller W/L Vacuum Ground PDU Target system vacuum Spin / Scan controller Direct drive interface Plasma flood chassis Amp scanner Amp spinner Spin / Scan PDU Bleed resistor VME: CPU Main board Loop controller Tetrode source head 80 keV Stack with resistors on top G2 Power supply side of gas cabinet G2 Resistor next to source head Source transformer ISO Transformer W/L area Larger beam / Stop Decal chassis under B/line HD PFS Operating system: Windows NT 2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II ist ein vorgefertigter Ionenimplantator und Monitor. Dieses Gerät ist speziell für die Implantation und Überwachung von sehr kleinen Substratgrößen, wie Wafer-Chips, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden, ausgelegt. Der Leap II ist in der Lage, Hochdurchsatz-Implantation und Echtzeit-Überwachung. Das Hauptmerkmal des Leap II ist seine Fähigkeit, mit einer Vielzahl von Implantatgasen und Dotierstoffmaterialien zu arbeiten. Mit der xR80 Plattform ist der Leap II in der Lage, Implantate bei Temperaturen bis -100 ° C zu präzisieren. Es verfügt über einen Energiebereich von bis zu 800 keV, der eine stärkere Kontrolle des Implantationsprozesses ermöglicht. Darüber hinaus verfügt der Leap II über eine extrem effiziente mechanische Abkühlung, die eine schnellere Aufwärm- und Abkühlzeit ermöglicht. Dies ermöglicht kürzere Taktzeiten und einen effizienteren Prozess. Der Leap II verfügt außerdem über ein hochauflösendes digitales Bildgebungssystem zur Inline-Substratbildgebung, um die Genauigkeit der Implantationen sicherzustellen. Dieses Gerät verwendet eine CCD-Kamera, um hochauflösende digitale Bilder der Substrate zu erfassen, was eine genaue Prozesskontrolle ermöglicht. Diese Überwachungsmaschine bietet Echtzeit-Feedback zur Prozessoptimierung. Das Leap II verfügt über ein fortschrittliches Wafer-Überwachungswerkzeug, das fortschrittliche mechanische, optische und elektrische Komponenten kombiniert, um genaue Messungen verschiedener Parameter während der Implantation bereitzustellen. Mit diesem Monitoring-Asset können potenzielle Fehler erkannt und verhindert werden. Die einzigartige xR80-Plattform des Leap II verfügt auch über integrierte Steuerungssoftware, die eine verbesserte Prozessverfolgung und -steuerung bietet. Diese Software ermöglicht eine bessere Prozessoptimierung und Prozessnachverfolgbarkeit und kann an spezifische Prozess- oder Anwendungsanforderungen angepasst werden. Neben den leistungsstarken Wellenanalyse- und Prozessleitsystemen verfügt der Leap II auch über ein High-End-Robotermodell für automatisierte Installationen. Diese Roboterausrüstung kann verwendet werden, um auch die komplexesten Installationen durchzuführen, was eine weitere Prozesskontrolle und eine erhöhte Effizienz ermöglicht. Insgesamt ist AMAT xR80 Leap II ein leistungsstarker vorgefertigter Ionenimplantator und Monitor, der eine effiziente Implantations- und Echtzeit-Substratanalyse bietet. Die fortschrittliche Steuerungssoftware ermöglicht die Rückverfolgbarkeit von Prozessen und das integrierte Robotersystem bietet automatisierte Installationen. Dieses Gerät ist perfekt für Halbleiterchip-Hersteller, die nach effizienten und präzisen Implantationen suchen.
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